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江西金谷光电科技有限公司年产8万条光栅传感器机磨工艺升级改造项目
项目详情
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400-688-2000
1、建设项目基本信息
企业基本信息
| **** | 建设单位代码类型：|
| ****0729MA399TFL6G | 建设单位法人：蔡春莹 |
| 蔡春莹 | 建设单位所在行政区划：**省**市全** |
| 工业园区标准厂房二期6栋 |
建设项目基本信息
| ****年产8万条光栅传感器机磨工艺升级改造项目 | 项目代码：**** |
| 建设性质： | |
| 2021版本:080-电子器件制造 | 行业类别（国民经济代码）：C3976-C3976-光电子器件制造 |
| 建设地点： | **省**市全** 工业园区标准厂房二期6栋 |
| 经度:114.57109 纬度: 24.75181 | ****机关：****审批局 |
| 环评批复时间： | 2025-04-18 |
| 全行审环评字〔2025〕10号 | 本工程排污许可证编号：****0729MA399TFL6G001X |
| 项目实际总投资(万元)： | 500 |
| 10 | 运营单位名称：**** |
| ****0729MA399TFL6G | 验收监测(调查)报告编制机构名称：**市****公司 |
| ****0702MACWETH95Q | 验收监测单位：******公司 |
| ****0703MABWM8GP4T | 竣工时间：2025-07-01 |
| 2025-08-01 | 调试结束时间：|
| 2025-11-07 | 验收报告公开结束时间：2025-12-05 |
| 验收报告公开载体： | **建设项目环境信息公示平台 |
2、工程变动信息
项目性质
| 技改 | 实际建设情况：技改 |
| / | 是否属于重大变动：|
规模
| 年产8万条光栅传感器 | 实际建设情况：年产8万条光栅传感器 |
| / | 是否属于重大变动：|
生产工艺
| （1）裁切：将透明玻璃 3600mm×1830mm 原件开裁成四小块，再将每小块玻璃开成 15.5mm±0.1mm 宽度的玻璃，此工序会产生边角料。 （2）倒角：利用磨角机的砂轮将玻璃两头的 8 个角磨成圆弧形，以手动方式平衡将玻璃 匀速向前推入进行倒角操作，倒角深度约为 0.3mm，此工序会产生倒角粉尘。 （3）清洗：采用纯水对光学玻璃进行清洗，以去除其上附着的杂质，清洗方式采用漂洗， 清洗水使用至一定程度后更换，此工序会产生清洗废水。 （4）擦拭：采用石油醚对光学玻璃表面进行擦拭，以去除超声波清洗尚未清洗干净的污 渍，此工序会产生擦拭废气和废纱布手套。 （5）镀膜：镀膜设备整机预热，开充气阀，充气后打开真空室门，利用电子加热轰击镀 膜材料钛靶，使其蒸发，蒸发出来的镀膜材料原子或分子吸附沉淀在基板上，逐渐形成一层 薄膜。 （6）上胶、烘干：采用涂胶机在镀膜后的光学玻璃表面均匀涂上一层光刻胶，将涂胶后 的光学玻璃放置在电热板上，加热至 80~100℃使光刻胶固化，从而牢固附着在玻璃表面，此 工序会产生上胶烘干废气。 （7）曝光：由于光刻胶对很窄的紫外光敏感，被光照射后会发生化学变化，很容易被显 影液剂去除，而没有感光的光刻胶则不会被去除。曝光就是利用光刻胶的这种特性，使用曝 光机、将事先设计好的光学图案通过掩模版以照像术透射到面板表面，使部分光刻胶得到光 照，另外部分光刻胶得不到光照，从而改变光刻胶性质。 （8）显影：显影是用显影液将感光的光刻胶去除，在光刻胶上形成了沟槽，使下面的光 学玻璃表面暴露出来，以便于下一道工序进行蚀刻，而没有感光的光刻胶则不会被清洗下来， 从而使下面光学玻璃表面的铬镀层得以保护。 本项目显影液采用 NaOH 溶液，利用氢氧化钠固体人工配制，配置比例为 15gNaOH：4.5L 水，放置于显影槽中，人工将曝光后玻璃浸泡于显影液中，使用后的显影液过滤掉其中未溶 解的光刻胶，此工序会产生显影废水。 （9）蚀刻：蚀刻的目的是将显影后暴露出的玻璃层表面去除，使光学玻璃基底显露出来。 本项目蚀刻采用硝酸铈铵溶液，显影后的光学玻璃浸泡于蚀刻液中，显影后暴露出的玻璃层 与溶液接触反应从而得到去除，而被光刻胶保护的玻璃层不会与溶液接触反应。蚀刻液利用 硝酸铈铵固体和水人工配制，配制比例为 1.2kg 硝酸铈铵：7.5L 水，配制后放置于蚀刻槽中， 人工将显影后玻璃浸泡在刻蚀液中，此工序会产生蚀刻废水。 （10）去胶：采用氢氧化钠溶液对残留在光学玻璃的光刻胶进行去胶，此工序会产生去 胶废水和废光刻胶。 （11）清洗：采用纯水对光学玻璃进行清洗，此工序会产生清洗废水。 （12）裁切：按规定的尺寸范围裁截，将产品用纸进行包扎，包扎时将两块玻璃无彩斑 的面贴在一起。 （13）包装出货：最后装箱出货。 | 实际建设情况：（1）裁切：将透明玻璃 3600mm×1830mm 原件开裁成四小块，再将每小块玻璃开成 15.5mm±0.1mm 宽度的玻璃，此工序会产生边角料。 （2）倒角：利用磨角机的砂轮将玻璃两头的 8 个角磨成圆弧形，以手动方式平衡将玻璃 匀速向前推入进行倒角操作，倒角深度约为 0.3mm，此工序会产生倒角粉尘。 （3）清洗：采用纯水对光学玻璃进行清洗，以去除其上附着的杂质，清洗方式采用漂洗， 清洗水使用至一定程度后更换，此工序会产生清洗废水。 （4）擦拭：采用石油醚对光学玻璃表面进行擦拭，以去除超声波清洗尚未清洗干净的污 渍，此工序会产生擦拭废气和废纱布手套。 （5）镀膜：镀膜设备整机预热，开充气阀，充气后打开真空室门，利用电子加热轰击镀 膜材料钛靶，使其蒸发，蒸发出来的镀膜材料原子或分子吸附沉淀在基板上，逐渐形成一层 薄膜。 （6）上胶、烘干：采用涂胶机在镀膜后的光学玻璃表面均匀涂上一层光刻胶，将涂胶后 的光学玻璃放置在电热板上，加热至 80~100℃使光刻胶固化，从而牢固附着在玻璃表面，此 工序会产生上胶烘干废气。 （7）曝光：由于光刻胶对很窄的紫外光敏感，被光照射后会发生化学变化，很容易被显 影液剂去除，而没有感光的光刻胶则不会被去除。曝光就是利用光刻胶的这种特性，使用曝 光机、将事先设计好的光学图案通过掩模版以照像术透射到面板表面，使部分光刻胶得到光 照，另外部分光刻胶得不到光照，从而改变光刻胶性质。 （8）显影：显影是用显影液将感光的光刻胶去除，在光刻胶上形成了沟槽，使下面的光 学玻璃表面暴露出来，以便于下一道工序进行蚀刻，而没有感光的光刻胶则不会被清洗下来， 从而使下面光学玻璃表面的铬镀层得以保护。 本项目显影液采用 NaOH 溶液，利用氢氧化钠固体人工配制，配置比例为 15gNaOH：4.5L 水，放置于显影槽中，人工将曝光后玻璃浸泡于显影液中，使用后的显影液过滤掉其中未溶 解的光刻胶，此工序会产生显影废水。 （9）蚀刻：蚀刻的目的是将显影后暴露出的玻璃层表面去除，使光学玻璃基底显露出来。 本项目蚀刻采用硝酸铈铵溶液，显影后的光学玻璃浸泡于蚀刻液中，显影后暴露出的玻璃层 与溶液接触反应从而得到去除，而被光刻胶保护的玻璃层不会与溶液接触反应。蚀刻液利用 硝酸铈铵固体和水人工配制，配制比例为 1.2kg 硝酸铈铵：7.5L 水，配制后放置于蚀刻槽中， 人工将显影后玻璃浸泡在刻蚀液中，此工序会产生蚀刻废水。 （10）去胶：采用氢氧化钠溶液对残留在光学玻璃的光刻胶进行去胶，此工序会产生去 胶废水和废光刻胶。 （11）清洗：采用纯水对光学玻璃进行清洗，此工序会产生清洗废水。 （12）裁切：按规定的尺寸范围裁截，将产品用纸进行包扎，包扎时将两块玻璃无彩斑 的面贴在一起。 （13）包装出货：最后装箱出货。 |
| / | 是否属于重大变动：|
环保设施或环保措施
| 废水：混合生产废水经酸碱中和+混 凝沉淀处理后与经化粪池处 理的生活污水形成综合废水， ****园区污水处理 厂深度处理。 废气：擦拭废气、上胶烘干废气负压 密闭收集后经二级活性炭吸 附通过排气筒（DA001）排放。 固废：设置一般固废暂存间（5m2）、 危废暂存间（5m2）。 | 实际建设情况：废水：混合生产废水经酸碱中和+混 凝沉淀处理后与经化粪池处 理的生活污水形成综合废水， ****园区污水处理 厂深度处理。 废气：擦拭废气、上胶烘干废气负压 密闭收集后经二级活性炭吸 附通过排气筒（DA001）排放。 固废：设置一般固废暂存间（5m2）、 危废暂存间（5m2）。 |
| / | 是否属于重大变动：|
其他
| / | 实际建设情况：/ |
| / | 是否属于重大变动：|
3、污染物排放量
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4、环境保护设施落实情况
表1 水污染治理设施
| 1 | 酸碱中和+混凝沉淀 | ****处理厂接管标准 | 酸碱中和+混凝沉淀 | 已监测 |
表2 大气污染治理设施
| 1 | 二级活性炭 | 《工业企业挥发 性有机物排放控制标准》 （DB12/524—2020） | 二级活性炭 | 已监测 |
表3 噪声治理设施
| 1 | 厂房隔声 | 《工业企业厂界环境噪声排 放标准》（GB12348-2008）3 类标准 | 厂房隔声 | 已监测 |
表4 地下水污染治理设施
表5 固废治理设施
| 1 | 设置一般固废暂存间（5m2） | 已设置一般固废暂存间（5m2） | |
| 2 | 设置危废暂存间（5m2） | 已设置危废暂存间（5m2） |
表6 生态保护设施
表7 风险设施
5、环境保护对策措施落实情况
依托工程
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环保搬迁
| / | 验收阶段落实情况：/ |
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区域削减
| / | 验收阶段落实情况：/ |
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生态恢复、补偿或管理
| / | 验收阶段落实情况：/ |
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功能置换
| / | 验收阶段落实情况：/ |
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其他
| / | 验收阶段落实情况：/ |
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6、工程建设对项目周边环境的影响
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7、验收结论
| 1 | 未按环境影响报告书（表）及其审批部门审批决定要求建设或落实环境保护设施，或者环境保护设施未能与主体工程同时投产使用 |
| 2 | 污染物排放不符合国家和地方相关标准、环境影响报告书（表）及其审批部门审批决定或者主要污染物总量指标控制要求 |
| 3 | 环境影响报告书（表）经批准后，该建设项目的性质、规模、地点、采用的生产工艺或者防治污染、防止生态破坏的措施发生重大变动，建设单位未重新报批环境影响报告书（表）或环境影响报告书（表）未经批准 |
| 4 | 建设过程中造成重大环境污染未治理完成，或者造成重大生态破坏未恢复 |
| 5 | 纳入排污许可管理的建设项目，无证排污或不按证排污 |
| 6 | 分期建设、分期投入生产或者使用的建设项目，其环境保护设施防治环境污染和生态破坏的能力不能满足主体工程需要 |
| 7 | 建设单位因该建设项目违反国家和地方环境保护法律法规受到处罚，被责令改正，尚未改正完成 |
| 8 | 验收报告的基础资料数据明显不实，内容存在重大缺项、遗漏，或者验收结论不明确、不合理 |
| 9 | 其他环境保护法律法规规章等规定不得通过环境保护验收 |
| 不存在上述情况 | |
| 验收结论 | 合格 |
温馨提示
1.该项目指提供国家及各省发改委、环保局、规划局、住建委等部门进行的项目审批信息及进展，属于前期项目。
2.根据该项目的描述，可依据自身条件进行选择和跟进，避免错过。
3.即使该项目已建设完毕或暂缓建设，也可继续跟踪，项目可能还有其他相关后续工程与服务。
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