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| 光学介质薄膜沉积设备 | |
| 项目所在采购意向: | ****2025年12月政府采购意向 |
| 采购单位: | **** |
| 采购项目名称: | 光学介质薄膜沉积设备 |
| 预算金额: | 180.000000万元(人民币) |
| 采购品目: |
A****0300电子工业生产设备
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| 采购需求概况 : |
本设备主要用于氮化硅(SiNx)等介质光学薄膜的沉积。通过本设备的采购,可在实验室目前薄膜沉积能力(金属薄膜为主)基础上,新增高质量介质播磨沉积能力(薄膜厚度不均匀度小于等于5%),突破当前光学介质薄膜工艺对研发能力的限制,支撑平面介质超表面的高精度加工,提升实验室在高精度微纳光子制造领域的核心能力。计划采购设备1台。投标性能不应低于本技术要求所提出的相关指标要求。
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| 预计采购时间: | 2025-12 |
| 备注: | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写