光学介质薄膜沉积设备

发布时间: 2025年12月11日
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****2025年12月政府采购意向-光学介质薄膜沉积设备 详细情况
光学介质薄膜沉积设备
项目所在采购意向: ****2025年12月政府采购意向
采购单位: ****
采购项目名称: 光学介质薄膜沉积设备
预算金额: 180.000000万元(人民币)
采购品目:
A****0300电子工业生产设备
采购需求概况 :
本设备主要用于氮化硅(SiNx)等介质光学薄膜的沉积。通过本设备的采购,可在实验室目前薄膜沉积能力(金属薄膜为主)基础上,新增高质量介质播磨沉积能力(薄膜厚度不均匀度小于等于5%),突破当前光学介质薄膜工艺对研发能力的限制,支撑平面介质超表面的高精度加工,提升实验室在高精度微纳光子制造领域的核心能力。计划采购设备1台。投标性能不应低于本技术要求所提出的相关指标要求。
预计采购时间: 2025-12
备注:

本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写

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