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等离子增强原子层沉积（JJ2025000194）采购公告

公告-招标公告

福建 -福州

发布时间： 2025年12月18日

摘要信息

招标单位

招标编号

招标估价

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招标代理机构

代理联系人

报名截止时间

投标截止时间

关键信息

等离子采购公告

招标详情

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相关单位：

***********公司企业信息

项目名称项目编号公告开始日期公告截止日期采购单位付款方式联系人联系电话签约时间要求到货时间要求预算总价发票要求含税要求送货要求安装要求收货地址供应商资质要求公告说明

等离子增强原子层沉积	****
2025-12-18 15:26:02	2025-12-21 17:00:00
****	内贸：全部货物交货并最终验收合格后，乙方向甲方提供全额的正式发票（10万元以上的国产设备乙方必须提供全额的增值税专用发票），甲方凭验收合格材料向乙方支付100%的合同款。

	内贸：合同签订后60个工作日内
￥495000.00




******校区
符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件

采购清单1

采购商品采购数量计量单位所属分类

等离子增强原子层沉积

台

其他电工、电子生产设备

品牌型号预算单价技术参数及配置要求参考链接售后服务

****公司

PLD

￥ 495000.00

一、设备用途：该设备为单原子层薄膜生长设备，即（PEALD）。利用该设备在基底上可以实现膜层的生长，用于薄膜材料制备、器件研究与开发，操作简单可靠，各实验参数可灵活变动。二、设备主要组成及性能指标 1. 极限真空：5x10-5Pa（不安装分子泵口过滤网）； 2. 整体真空漏率：小于10－8pa.l∕s； 3. TiN的30nm薄膜电阻率优于90uΩ*cm； 4. 100um圆形MIM(TiN/HfO2/TiN)电容原位生长，HfO2薄膜在6nm厚度下，±1V的时候，漏电要小于1E-7A/cm2； 5. 4寸样品，TiN、HfO2，3次电性重复性优于±5%，均匀取13个分散点(每两点间距不小于20毫米)， 6. 50nm厚HfO2, TiN，13个分散点，薄膜均匀性≤±2%； 7. 衬底最大尺寸φ200mm； 8. 管路、反应腔、喇叭管用316L EP管 9. 氨气氧气（互锁）防呆设计 10. 预留额外臭氧与源瓶管路 11. 源的阀门控制精度优于：20ms 12. 一年一次，收费清理和保养plasma服务 13. 采用Remote Plasma制备薄膜； 14. 基片可加热500℃ 15. 全自动匹配射频电源：600w（Advanced Energy或seren） 16. TDMAT源：由进口的“1个ALD高速脉冲截止阀、1个气动截止阀、1个源瓶（25ml）、内外抛光不锈钢管路、VCR接头、垫片若干、加热衣等。 17. TDMAH源：由进口的“1个ALD高速脉冲截止阀、1个气动截止阀、1个源瓶（25ml）、内外抛光不锈钢管路、VCR接头、垫片若干、加热衣等。 18. TDMAZ源：由进口的“1个ALD高速脉冲截止阀、1个气动截止阀、1个源瓶（25ml）、内外抛光不锈钢管路、VCR接头、垫片若干、加热衣等。 19. TMA源：由进口的“1个ALD高速脉冲截止阀、1个气动截止阀、1个源瓶（25ml）、内外抛光不锈钢管路、VCR接头、垫片若干、加热衣等。 20. 流量计： 200SCCM质量流量控制器（氩气）一路，（VCR接口，**）； 200SCCM质量流量控制器（氧气）一路（VCR接口，**）； 200SCCM质量流量控制器（氨气）一路（VCR接口，**）； 20SCCM质量流量控制器（氩气）一路，（VCR接口，**）； 21. 系统由触摸屏和PLC实现对整个系统的控制，有自动和手动控制两种功能，操作过程全部在触摸屏上实现；三、备件无氧铜密封垫圈（相关规格各一个）型氟橡胶密封圈：（相关规格各一个）四、培训培训时间：2～3天、培训人数：2～3人、培训内容了解设备的工作原理、组成及各部组件、控制系统的工作原理和使用方法，熟练掌握整套系统的操作规程，能够对设备的一般故障进行诊断和简单维修，进行易损件的更换四、交货期 3个月四、质保期 1年

质量保证期:验收合格之日起算一年;服务网点:国内;维修响应时限:报修后2小时内响应;电话支持:7×24小时;备用机:48小时内无法排除故障，免费提供同档次备用机;