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高真空多靶磁控溅射镀膜机
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中标金额
220000.00
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400-688-2000
相关单位：
***********公司企业信息
竞价结果详细（****）
| 申购单主题： | 高真空多靶磁控溅射镀膜机 | 申购单位： | ****学院 | 申购人： | 黄洪涛 |
| 报价类型： | 国内含税价 | 使用币种： | 人民币 | 公告发布时间： | 2025-12-11 16:38:52 |
| 申购备注： | |||||
提示：采购结果公告三个工作日，各供应商或师生如对下述采购结果有异议，请在公告期间以书面形式并附相关****大学南校园415栋316****中心收（如为供应商需加盖单位公章，如为师生需签名），联系电话：020-****1892
| 设备名称 | 品牌/厂商 | 型号 | 数量 | 售后服务 | ||
| 高真空多靶磁控溅射镀膜机 | 泰科诺 | JCP500 | 1 | |||
| 规格 | ||||||
| 1.真空腔室：Ф500×H420mm，SUS304优质不锈钢，前开门结构； 2.真空系统：分子泵（1200L/S）+直联旋片泵（9L/S）+高真空阀门组合的高真空系统，数显复合真空计；3.真空极限：6.0×10-5Pa（空载，经烘烤除气后）； 4. 漏率：设备升压率≤0.8Pa/h；设备保压：停泵12小时候后，真空≤10Pa； 5. 抽速：从大气抽至5.0×10-3Pa≤15min；6. 基片台：Φ150mm范围内可装卡各种规格基片，基片旋转：0～20转/分钟；加热:室温～500±1℃，可控可调，日本岛电PID智能温控闭环控温；7.溅射系统：配3套3英寸永磁共焦磁控溅射靶（溅射靶角度、高度可调节）；配独立挡板，配1KW直流脉冲电源2台，配600W射频电源2套；配-1000V，功率1000W脉冲偏压电源1台：采用磁控靶从下向上溅射镀膜； 8.气路系统；配质量流量控制器，氩、氮、氧各一路，配混气管和截止阀；9.膜厚不均匀性：≤±4%（单靶Φ150mm范围内）；10.控制方式：PLC+触摸屏人机界面控制系统；11.报警及保护：对泵、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施；完善的逻辑程序互锁保护系统；12．辅助附件：配制冷量5.17KW冷却循环水机和最大流量≥110L/min静音无油空压机； | ||||||
| 中标供应商 | 单价（元） | 初选理由 |
| **** | 220000 | 最低价原则 |
招标进度跟踪
2025-12-21
中标通知
高真空多靶磁控溅射镀膜机
当前信息
2025-12-12
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