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第6代有源矩阵有机发光显示器件（AMOLED）面板生产线废液减量化、研发线工艺技术改造项目
项目详情
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400-688-2000
1、建设项目基本信息
企业基本信息
| **** | 建设单位代码类型：|
| ****1022MA07T0QG8Y | 建设单位法人：李俊峰 |
| 孟玉平 | 建设单位所在行政区划：******县 |
| ****示范区 |
建设项目基本信息
| 第6代有源矩阵有机发光显示器件（AMOLED）面板生产线废液减量化、研发线工艺技术改造项目 | 项目代码：**** |
| 建设性质： | |
| 2021版本:101-危险废物（不含医疗废物）利用及处置 | 行业类别（国民经济代码）：N7724-N7724-危险废物治理 |
| 建设地点： | ******县 ******县 |
| 经度:116.231667 纬度: 39.442500 | ****机关：****分局 |
| 环评批复时间： | 2023-09-28 |
| 固环管〔2023〕38号 | 本工程排污许可证编号：****1022MA07T0QG8Y001U |
| 项目实际总投资(万元)： | 1571 |
| 100 | 运营单位名称：**** |
| ****1022MA07T0QG8Y | 验收监测(调查)报告编制机构名称：******公司 |
| ****0101MA081RMJ94 | 验收监测单位：******公司 |
| ****0101MA081RMJ94 | 竣工时间：2025-09-30 |
| 调试结束时间： | |
| 2025-11-25 | 验收报告公开结束时间：2025-12-23 |
| 验收报告公开载体： | 环评云助手 |
2、工程变动信息
项目性质
| 技术改造 | 实际建设情况：技术改造 |
| 无 | 是否属于重大变动：|
规模
| 基板加工能力180000 片/年（基板尺寸：1500mm×1850mm） | 实际建设情况：基板加工能力180000 片/年（基板尺寸：1500mm×1850mm）。 |
| 无 | 是否属于重大变动：|
生产工艺
| （1）研发车间工艺技改 研发车间集成了阵列工艺、蒸镀工艺及触摸屏工艺等工艺，主要是产品量产前对新产品的材料、工艺、器件进行先期验证，从而减少新材料、工艺、器件直接导入量产带来的经营风险。 本次研发车间开发一条研发新产品的工艺路线，同时保留原产品生产工艺路线，技改前后原辅材料用量不发生变化。新产品研发用量与原产品研发用量不定，根据最终研发方案确定。 本次研发车间新产品研发工艺技改是在原阵列段工艺流程（玻璃基板投入清洗-成膜前清洗-缓冲层及半导体层沉积-晶化前清洗-晶化处理-半导体图形等）“成膜前清洗”、“半导体图形”之间新增1台溅射机旁路设备，用于半导体层沉积，此过程产生废金属靶材，外售综合利用；在流程后端化学气相沉积工序（含闸极绝缘层成膜、中间层沉积工序）新增1台化学气相沉积设备，利用该设备在200~450℃左右的真空腔室中用流量控制器精确分管路加入SiH4、NH3、N2、O2、N2O、NF3等气体，在电场作用下进行等离子放电发生化学反应，在玻璃基板表面沉积出绝缘薄膜层。此工序产生CVD废气，主要污染物为氟化物、NH3、非甲烷总烃、颗粒物、氮氧化物，经收集后排入阵列车间现有CVD废气处理系统（天然气燃烧处理装置+除尘器+湿式（氢氧化钠）洗涤塔+1根31m高排气筒（DA073））；在流程后端干法刻蚀工序（含闸极层刻蚀、中间层刻蚀、源漏极刻蚀）新增1台干法刻蚀专用设备，干法刻蚀是在常温真空腔室中通过流量控制器精确多管路通入O2、Cl2、HBr等气体在电场作用下发生等离子体，对玻璃基板上的非金属膜或金属膜进行刻蚀。此工序产生酸性废气，主要污染物为氮氧化物、HCl、氟化物、氯气，经收集后排入阵列车间现有酸洗废气处理系统（三级喷淋塔（特气用等离子体燃烧法预处理）+1根31m高排气筒（DA062）），流程内其他工序设备利旧。 （2）掩膜版车间掩膜版清洗NMP废液回收 掩膜版是蒸镀使用的重要治具。通过张网机将膜版框和支撑片、精细金属掩膜版张网组合在一起；张网完成的掩膜版通过检查设备检查相关误差及洁净度情况，再经过清洗完，并检查无异常后，送入蒸镀工段。 本次掩膜版车间技改主要是掩膜版清洗工序，掩膜版清洗包含掩膜版清洗以及内衬清洗，掩膜版清洗工序产生的NMP废液，回用于内衬清洗工序，内衬清洗后的废液，暂存于现有危废暂存间内，委托****处置。 （3）阵列车间阵列段基板清洗工序技改 现有工程阵列段基板清洗工序产生的含有清洗剂废液，经收集后，暂存于危废暂存间废液罐内，定期委托第三方有资质单位处置。本次阵列车间技改主要针对阵列车间基板清洗工序产生的废液自行处置，产生量约为2m3/d，经有机废水系统预处理后，排入回用系统处理后回用。回用系统处理工艺采用“MBR+RO”，回用系统MBR+RO产生的浓水约为0.4m3/d，回用于有机废水系统，不外排。 | 实际建设情况：（1）研发车间工艺技改 研发车间集成了阵列工艺、蒸镀工艺及触摸屏工艺等工艺，主要是产品量产前对新产品的材料、工艺、器件进行先期验证，从而减少新材料、工艺、器件直接导入量产带来的经营风险。 本次研发车间开发一条研发新产品的工艺路线，同时保留原产品生产工艺路线，技改前后原辅材料用量不发生变化。新产品研发用量与原产品研发用量不定，根据最终研发方案确定。 本次研发车间新产品研发工艺技改是在原阵列段工艺流程（玻璃基板投入清洗-成膜前清洗-缓冲层及半导体层沉积-晶化前清洗-晶化处理-半导体图形等）“成膜前清洗”、“半导体图形”之间新增1台溅射机旁路设备，用于半导体层沉积，此过程产生废金属靶材，外售综合利用；在流程后端化学气相沉积工序（含闸极绝缘层成膜、中间层沉积工序）新增1台化学气相沉积设备，利用该设备在200~450℃左右的真空腔室中用流量控制器精确分管路加入SiH4、NH3、N2、O2、N2O、NF3等气体，在电场作用下进行等离子放电发生化学反应，在玻璃基板表面沉积出绝缘薄膜层。此工序产生CVD废气，主要污染物为氟化物、NH3、非甲烷总烃、颗粒物、氮氧化物，经收集后排入阵列车间现有CVD废气处理系统（天然气燃烧处理装置+除尘器+湿式（氢氧化钠）洗涤塔+1根31m高排气筒（DA073））；在流程后端干法刻蚀工序（含闸极层刻蚀、中间层刻蚀、源漏极刻蚀）新增1台干法刻蚀专用设备，干法刻蚀是在常温真空腔室中通过流量控制器精确多管路通入O2、Cl2、HBr等气体在电场作用下发生等离子体，对玻璃基板上的非金属膜或金属膜进行刻蚀。此工序产生酸性废气，主要污染物为氮氧化物、HCl、氟化物、氯气，经收集后排入阵列车间现有酸洗废气处理系统（三级喷淋塔（特气用等离子体燃烧法预处理）+1根31m高排气筒（DA062）），流程内其他工序设备利旧。 （2）掩膜版车间掩膜版清洗NMP废液回收 掩膜版是蒸镀使用的重要治具。通过张网机将膜版框和支撑片、精细金属掩膜版张网组合在一起；张网完成的掩膜版通过检查设备检查相关误差及洁净度情况，再经过清洗完，并检查无异常后，送入蒸镀工段。 本次掩膜版车间技改主要是掩膜版清洗工序，掩膜版清洗包含掩膜版清洗以及内衬清洗，掩膜版清洗工序产生的NMP废液，回用于内衬清洗工序，内衬清洗后的废液，暂存于现有危废暂存间内，委托****处置。 （3）阵列车间阵列段基板清洗工序技改 现有工程阵列段基板清洗工序产生的含有清洗剂废液，经收集后，暂存于危废暂存间废液罐内，定期委托第三方有资质单位处置。本次阵列车间技改主要针对阵列车间基板清洗工序产生的废液自行处置，产生量约为2m3/d，经有机废水系统预处理后，排入回用系统处理后回用。回用系统处理工艺采用“MBR+RO”，回用系统MBR+RO产生的浓水约为0.4m3/d，回用于有机废水系统，不外排。 |
| 无 | 是否属于重大变动：|
环保设施或环保措施
| 废气：CVD废气经收集后排入阵列车间现有CVD废气处理系统（天然气燃烧处理装置+除尘器+湿式（氢氧化钠）洗涤塔+1根31米高排气筒（DA073））排放；酸性废气经收集后排入阵列车间现有酸洗废气处理系统（三级淋塔（特气用等离子体燃烧法预处理）+1根31米高排气简（DA062））排放。 废水：本项目不新增劳动定员，因此不新增生活污水。技改后掩模板清洗产生的NMP废液，回用于内衬清洗工序，内衬清洗后的废液，暂存现有危废暂存间内，委托第三方有资质单位处置。阵列车间技改主要针对阵列车间基板清洗工序产生的废液，经有机废水系统预处理后，排入回用系统处理后回用，不外排。 噪声：生产设备在选用噪声较小的新型设备基础上，将主要设备集中安装在厂房内，并对设备采取基础减振、等降噪措施，再经厂房隔声。 固废：一般固废须满足《一般工业固体废物贮存和填埋污染控制标准》（GB18599-2020）中标准要求；危险废物暂存于厂区危废暂存间，定期交由资质单位处置，须满足《危险废物贮存污染控制标准》（GB18597-2023）标准要求；生活垃圾由环卫部门统一处理。 | 实际建设情况：①废气治理设施 技改项目产生的废气主要为研发车间化学气相沉积工序（含闸极绝缘层成膜、中间层沉积工序）产生的CVD废气依托阵列车间现有CVD废气处理系统（天然气燃烧处理装置+除尘器+湿式（氢氧化钠）洗涤塔+1根31m高排气筒（DA073））；干法刻蚀工序（含闸极层刻蚀、中间层刻蚀、源漏极刻蚀）产生的酸性废气依托现有酸性废气处理系统（三级喷淋塔（特气用等离子体燃烧法预处理）+1根31m高排气筒（DA062））。 ②废水治理措施 技改项目不新增劳动定员，因此不新增生活污水量。技改项目阵列车间清洗工序产生的废液经有机废水系统预处理后，排入回用系统处理后回用。回用系统处理工艺采用“MBR+RO”，回用系统MBR+RO产生的浓水回用于有机废水系统，不外排。 ③噪声治理措施 本项目主要噪声设备为研发车间新增设备产生的噪声。通过厂区合理布局、选用低噪声设备，采用基础减振，厂房隔声等措施降低噪声对环境的影响。 ④固废治理措施 一般固体废物为研发车间半导体层沉积工序产生废金属靶材，外售综合利用。 危险废物有掩膜版车间内衬清洗产生的废液，暂存于危废暂存间现有废液罐内，定期委托****处置。 |
| 无 | 是否属于重大变动：|
其他
| 无 | 实际建设情况：无 |
| 无 | 是否属于重大变动：|
3、污染物排放量
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | |
| 0 | 0 | 80.567 | 0 | 0 | 0 | 0 | |
| 0 | 0 | 8.057 | 0 | 0 | 0 | 0 | |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | / |
| 0 | 0 | 712.174 | 0 | 0 | 0 | 0 | / |
| 0 | 0 | 587.342 | 0 | 0 | 0 | 0 | / |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | / |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | / |
4、环境保护设施落实情况
表1 水污染治理设施
| 1 | 有机废水系统、回用系统 | / | 已落实 | 已监测 |
表2 大气污染治理设施
| 1 | 天然气燃烧处理装置+除尘器+湿式（氢氧化钠）洗涤塔+1根31m高排气筒（DA073） | 氟化物、颗粒物、氮氧化物执行《大气污染物综合排放标准》（GB16297-1996）表2中二级排放标准限值；NH3执行《恶臭污染物排放标准》（GB14554-93）表2恶臭污染物排放标准值；非甲烷总烃执行《工业企业挥发性有机物排放控制标准》（DB13/2322-2016）表1其它行业非甲烷总烃排放要求 | 已落实 | 已监测 | |
| 2 | 三级喷淋塔（特气用等离子体燃烧法预处理）+1根31m高排气筒（DA062） | 氯气、HCl、氟化物、氮氧化物执行《大气污染物综合排放标准》（GB16297-1996）表2中二级排放标准限值 | 已落实 | 已监测 |
表3 噪声治理设施
| 1 | 通过厂区合理布局、选用低噪声设备，采用基础减振，厂房隔声等措施降低噪声对环境的影响 | 《工业企业厂界环境噪声排放标准》（GB12348-2008）表1中3类标准 | 已落实 | 已监测 |
表4 地下水污染治理设施
表5 固废治理设施
| 1 | 研发车间半导体层沉积工序产生废金属靶材，外售综合利用。掩膜版车间内衬清洗产生的废液，暂存于危废暂存间现有废液罐内，定期委托****处置。 | 研发车间半导体层沉积工序产生废金属靶材，外售综合利用。掩膜版车间内衬清洗产生的废液，暂存于危废暂存间现有废液罐内，定期委托****处置。 |
表6 生态保护设施
表7 风险设施
5、环境保护对策措施落实情况
依托工程
| 供电工程、供水工程、供热工程、化学品供应工程、有机废水处理系统、回用处理系统、现有废气治理设施、生产工艺、现有危废间等 | 验收阶段落实情况：已落实 |
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环保搬迁
| 无 | 验收阶段落实情况：无 |
| / |
区域削减
| 无 | 验收阶段落实情况：无 |
| / |
生态恢复、补偿或管理
| 无 | 验收阶段落实情况：无 |
| / |
功能置换
| 无 | 验收阶段落实情况：无 |
| / |
其他
| 无 | 验收阶段落实情况：无 |
| / |
6、工程建设对项目周边环境的影响
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7、验收结论
| 1 | 未按环境影响报告书（表）及其审批部门审批决定要求建设或落实环境保护设施，或者环境保护设施未能与主体工程同时投产使用 |
| 2 | 污染物排放不符合国家和地方相关标准、环境影响报告书（表）及其审批部门审批决定或者主要污染物总量指标控制要求 |
| 3 | 环境影响报告书（表）经批准后，该建设项目的性质、规模、地点、采用的生产工艺或者防治污染、防止生态破坏的措施发生重大变动，建设单位未重新报批环境影响报告书（表）或环境影响报告书（表）未经批准 |
| 4 | 建设过程中造成重大环境污染未治理完成，或者造成重大生态破坏未恢复 |
| 5 | 纳入排污许可管理的建设项目，无证排污或不按证排污 |
| 6 | 分期建设、分期投入生产或者使用的建设项目，其环境保护设施防治环境污染和生态破坏的能力不能满足主体工程需要 |
| 7 | 建设单位因该建设项目违反国家和地方环境保护法律法规受到处罚，被责令改正，尚未改正完成 |
| 8 | 验收报告的基础资料数据明显不实，内容存在重大缺项、遗漏，或者验收结论不明确、不合理 |
| 9 | 其他环境保护法律法规规章等规定不得通过环境保护验收 |
| 不存在上述情况 | |
| 验收结论 | 合格 |
温馨提示
1.该项目指提供国家及各省发改委、环保局、规划局、住建委等部门进行的项目审批信息及进展，属于前期项目。
2.根据该项目的描述，可依据自身条件进行选择和跟进，避免错过。
3.即使该项目已建设完毕或暂缓建设，也可继续跟踪，项目可能还有其他相关后续工程与服务。
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