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季华实验室2025年12月至2026年01月政府采购意向
招标详情
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***********公司企业信息
公告信息
| ****2025年12月至2026年01月政府采购意向 | ||
| **** | ||
| 2025-12-29 10:10:48 | ||
| 正常公告 |
公告内容
为便****政府采购信息，根据《****政府采购意向公开工作的通知》（财库〔2020〕10号）等有关规定，现将本单位2025年12月至2026年01月采购意向公开如下：
| 1 | ****采购高质量多功能复合物理气相沉积系统 |
标的名称：高质量多功能复合物理气相沉积系统
标的数量：1
主要功能或目标："可在金属、陶瓷等基材表面物理气相沉积制备多种成分与结构的单层或多层复合涂层，至少具备以下4个模块： （1）三英寸磁控溅射靶：≥3个，品字形或矩形排布； （2）弯管过滤电弧靶位：≥1个； （3）矩形磁控溅射靶位：≥2个； （4）阳极层离子源清洗模块：≥1个。 可制备的涂层包括但不限于： 1.Cr、Ti、Au等金属涂层； 2.Cu-Ti等多元素金属复合涂层； 3.TiN等氮化物、WC等碳化物和MoS
需满足的要求："1、极限真空：≤8.0×10-4Pa； 2、有效沉积尺寸:≥φ300×120mm； 3、真空腔室耐温≥500℃； 4、每个靶位均带独立挡板； 5、样架承重不低于100kg； 6、样架公转速度0~5rpm范围内可调； 7、溅射时具备偏压功能； 8、3个三英寸靶具备直流、射频、HIPIMS等多种功能模式，可单独溅射、依次溅射和共溅射，HIPIMS溅射与偏压可同步； 9、配备Ar、N2、O2、CH4、
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落实相关政策 | 2,000,000.00 | 2026年01月 | 科研仪器设备 |
| 2 | ****采购大范围高速离子研磨仪 |
标的名称：大范围高速离子研磨仪
标的数量：1
主要功能或目标：核心功能：实现样品高精度氩离子束研磨、抛光，配套低温控制，完成截面及平面加工，满足材料微观分析前样品制备需求，保障后续电镜等检测精准度。采购目标：为****采购 1 套大范围高速离子研磨仪，适配各类材料样品制备，支撑科研检测工作，保障设备长期稳定运行。
需满足的要求："电压参数：氩离子加速电压 0-8kV 可调，适配不同材质样品加工； 加工效率与尺寸：8kV 工况下 Si 片截面加工速度≥1000μm/h，宽度≥7mm，最大样品尺寸≥ 20 (w)×12 (d)×7 (h) mm； 平面加工能力：最大样品≥φ50mm×25 (h) mm，有效抛光区域≥φ32mm； 低温控制：标配液氮间接冷却，控温 0~-100℃可调，适配温度敏感材料加工。"
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落实相关政策 | 1,650,000.00 | 2026年01月 | 科研仪器设备 |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
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2025年12月29日
招标进度跟踪
2025-12-29
招标预告
季华实验室2025年12月至2026年01月政府采购意向
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