发布时间:2026-01-08
建设单位:****
项目名称:****半导体用刻蚀气项目
建设位置:化铁路专用线南侧、北陈村北
建设规模:834.91㎡
附件:1.总平面图
2.建设工程规划许可证
3.建设工程规划许可证附件