原子层沉积系统

A****2402真空应用设备

1、采购名称：原子层沉积系统 (8英寸) 2、采购标的需实现的主要功能或者目标：原子层沉积通过基于样品表面饱和化学吸附和氧化还原反应，可以制备出致密薄膜，并可以通过控制反应循环次数来精准控制膜厚，具有良好的台阶覆盖率和精确的膜厚控制能力，制备结果具有很高的膜厚均匀性。配备热壁，结合前驱体瓶加热，管路加热，横向喷头等设计，使温度均匀性高达99.9%，气流对温度影响减少到0.03%以下。 3、采购数量：1台。 4、采购标的需满足的质量、安全等：反应腔：304或316 不锈钢。可以生长最大8 英寸样品的腔体，氮气保护的双O-Ring 高温密封系统，有效隔绝其他气体渗漏。基底加热温度RT-400℃可控，控制精度±1℃。腔体烘烤温度RT-200℃可控，控制精度±1℃。反应腔内具有可拆卸更换挡版以方便维护。沉积模式：包括至少以下3种工作模式：高速沉积的连续模式，沉积超高宽深比结构的停流模式，等离子体增强模式。前驱体源输运系统：共5路前驱体源，1路为常温源，可接水和臭氧/氨气/H2S等气体；4路为加热源，加热温度RT-200℃可控，控制精度±1℃。加热源配备耐高温(>200°C)手动阀以及前驱体源瓶体积50cc。前驱体管路：所有前驱体管路须全部采用316L不锈钢EP级管路，所有管路加热温度RT-150℃可控。管路腔体清洗维护简便，设备须具有"自动清洗"的功能,要求用户在沉积前与沉积完成后运行""自动清洗"程序, 清洗管路, 保护ALD阀门。ALD阀：每一路前驱体配置一个原子层沉积专用高速高温ALD阀，ALD阀加热温度RT-150℃可控。 5、服务要求：免费质量保证期要求不低于1年。免费质量保证期从货物供货、安装、调试正常且经采购人综合运行并签订终验收合格报告之日起开始计算。免费质量保证期以整个项目为单位进行响应。培训内容包括理论培训和上机操作，至少免费培训用户方2人以上会操作仪器。接到用户方通知后至少4小时电话响应，48小时内上门服务。 6、供货时限：合同签订后30个工作日内所有设备到货。 7、其他：技术交流联系人及电话：周老师 185****3032。