广州市生态环境局增城分局关于对中微公司华南总部及半导体、泛半导体设备研发生产基地一期环境影响评价文件拟进行审查的公示

项目名称

中微公司华南总部及半导体、泛半****基地一期

建设地点

******区

建设单位

中微半导体****公司

项目概况

项目拟选址**市**区新誉北路和创优路交叉口东北侧地块，主要从事半导体设备的生产、研发，仅包括组装、测试和包装，整机测试工序均在真空、保压状态下进行，再使用气枪喷射氦气进行气密性检测，不涉及通入特气进行反应测试，年产12台Gen8.6代等离子增强化学气相沉积(PECVD)设备、3台蚀刻(Etch)设备，建设3个Gen4.5代等离子增强化学气相沉积(PECVD)研发机台、3个干法蚀刻(DryEtch)研发机台、1个原子沉积(ALD)研发机台。研发主要采用设计(含委外定制原料/零部件)、原料质检、玻璃基片清洗、等离子增强化学气相沉积(PECVD)工艺功能测试与腔体清洗、膜层性能测试、原子层沉积(TFEALD)工艺功能测试、干法刻蚀(DryEtch)工艺功能测试、设备性能改进升级等工序。项目总投资100000万元，其中环保投资730万元。

环评机构

****开发区****公司

主要环境影响及预防或减轻不良环境影响的对策和措施

（一）项目氯气、氟化物、氮氧化物执行《大气污染物排放限值》（DB44/27-2001）第二时段二级标准；磷烷和硅烷参照执行《环境影响评价技术导则制药建设项目》（HJ611-2011）附录C中多介质环境目标值估算DMEG值和《荷兰排放导则》（NER）中排放限值的较严值；非甲烷总烃、TVOC执行《固定污染源挥发性有机物综合排放标准》（DB44/2367-2022）表1挥发性有机物排放限值；氨执行《恶臭污染物排放标准》（GB14554-93）表2中35米高排气筒排放标准值。食堂油烟执行《饮食业油烟排放标准（试行）》（GB18483-2001）表2最高允许排放浓度。厂区内无组织排放监控点NMHIC浓度执行《固定污染源挥发性有机物综合排放标准》（DB44/2367-2022）中表3厂区内VOCs无组织排放限值。厂界无组织排放的硫酸雾、氮氧化物、氟化物、氯气执行《大气污染物排放限值》（DB44/27-2001）表2第二时段无组织排放监控浓度限值；氨、硫化氢、臭气浓度执行《恶臭污染物排放标准》（GB14554-93）新、扩、改建设项目恶臭污染物厂界二级标准。
（二）项目生活污水执行《水污染物排放限值》（DB44/26-2001）第二时段三级标准，生产废水执行《电子工业水污染物排放标准》（GB39731-2020）；经市政污****开发区****水厂处理达标后排放。
（三）项目噪声排放执行《工业企业厂界环境噪声排放标准》（GB12348-2008）3类标准。
（四）各类固体废物实行分类收集、处置。固体废物的贮存、堆放应按《危险废物贮存污染控制标准》（GB18597-2023）、《一般工业固体废物贮存和填埋污染控制标准》(GB 18599-2020)要求进行管理。危险废物应委托有资质的单位处置。

公众参与情况