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南京大学超导薄膜磁控溅射沉积系统
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***********公司企业信息
****2026年2至12月政府采购意向-****超导薄膜磁控溅射沉积系统 详细情况
| ****超导薄膜磁控溅射沉积系统 | |
| 项目所在采购意向： | ****2026年2至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | ****超导薄膜磁控溅射沉积系统 |
| 预算金额： | 450.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****2402 真空应用设备
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| 采购需求概况 ： |
****拟采购超导薄膜磁控溅射沉积系统一台。主要用于新型薄膜材料和物性研究。主要采购需求如下：（1）主体由两个共溅射镀膜室、样品传送室等三个腔室和控制系统组成；（2）极限真空≤5.0E^-6Pa(带烘烤除气）；（3）每个镀膜室配4套永磁靶枪，靶枪尺寸≥2英寸；（4）兼容4英寸及以下尺寸基片，可连续回转（0-60rpm），加热最高温度≥500℃±1℃；（5）能够多靶共溅射，4英寸面内膜厚误差＜5%；（6）配置2台功率≥300W的射频溅射源、4台功率≥500W的直流溅射源；（7）质保期：自验收之日起不少于12个月。
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| 预计采购时间： | 2026-03 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
招标进度跟踪
2026-09-21
2026-08-31
2026-08-21
2026-07-30
2026-01-16
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