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华南理工大学晶圆表面图案设计、加工与制备服务
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***********公司企业信息
****2026年2至3月政府采购意向-****晶圆表面图案设计、加工与制备服务 详细情况
| ****晶圆表面图案设计、加工与制备服务 | |
| 项目所在采购意向： | ****2026年2至3月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | ****晶圆表面图案设计、加工与制备服务 |
| 预算金额： | 1700.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
C****0100金属制品的制造业服务和金属加工服务
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| 采购需求概况 ： |
主要服务内容： 提供12英寸晶圆表面周期性化学预图案加工服务，涵盖定制化纳米级精度结构的设计、晶圆流片加工与制备，以及区域选择性表面性质调控处理。 具体指标： 1. ▲膜层结构及厚度(从上往下) ： - 100nm光刻胶层（PR）/（N193=1.7；K193=0.08） - 23nm底部抗反射涂层（BARC）/(N193=1.95；K193=0.28) - 20nm氮氧化硅层（SION）/（N193=1.98；K193=0.98） - 15nm OX/（N193=1.567；K193=0) - 60nm ACL carbon/ (N193=1.191；K193=0.41) - 85nm Ploy/（多晶硅） - 77nm OX/(ISSG 原位水气生成二氧化硅) -Si基底； 2. ▲光刻胶图形结构：重复线条结构； 3. ▲线条关键尺寸（CD）：35nm（±10% range） 4. ▲关键尺寸均匀性（LCDU）: 0.7nm（±10% range）； 5. ▲光刻胶粗糙度（LWR）: 2.9nm（±10% range，CD-SEM）； 6. ▲光刻胶粗糙度（LER）: 1.8nm（±10% range，CD-SEM）； 7. ▲线条图形高度: 80nm（±10% range）； 8. ▲重复性周期：Pitch 118nm（±10% range）； 9. 晶圆数量：50 pcs； 10. ▲晶圆尺寸：12英寸
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| 预计采购时间： | 2026-02 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
招标进度跟踪
2026-01-30
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