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量子芯片加工设备采购项目采购意向公告
招标详情
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400-688-2000
项目所在地：**省
为便于供应商了解采购信息，根据《物资服务集中采购需求管理暂行办法》等有关规定，现将量子芯片加工设备采购项目的采购意向公开如下：
| 1 | 量子芯片加工设备采购项目 |
采购内容：磁控溅射设备； 激光直写设备； 刻蚀设备； 量子芯片加工配套设备
采购数量：1批
主要功能或目标：磁控溅射设备主要用于金属铌、钛、钽等薄膜及其氮化物的生长制备。 激光直写设备应用于亚微米尺度的图形化工艺及掩模版制备工艺，可应用于在各种衬底上进行激光直接光刻工艺，应具备激光直写光刻所要求的的各项条件。 刻蚀设备实现低损伤、高刻蚀速率、高选择比的刻蚀工艺，精确地控制刻蚀深度和形状。 量子芯片加工配套设备对量子芯片加工产生的废气进行尾气处理，确保排放指标符合国家相关标准。
需满足的要求：满足超导量子芯片微米级电路的镀膜工艺、光刻工艺、刻蚀工艺的设备需求
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磁控溅射设备主要包括高真空快速进样室和超高真空磁控溅射室。 激光直写设备主要包括高精密激光图形发生器，具体包括温控防尘罩、光刻激光发生器、精密光学系统、工作台平台系统、激光光刻读写头等。 刻蚀设备主要满足硅刻蚀深度：30μm、刻蚀速率＞2μm/min；刻蚀选择比：＞30:1、硅孔侧壁垂直度：90±1°；硅材料刻蚀片内均匀性（150㎜硅晶圆，去边7㎜）：＜±5%、硅材料刻蚀片片间均值均匀性（150㎜硅晶圆，去边7㎜）：＜±3%。 量子芯片加工配套设备包含气体房和机台端尾气处理器，满足现有薄膜区、刻蚀区机台使用，以及现有气体房尾气处理使用。 | 1,450.00 | 2026年04月 | 无 |
注：1.本次意向公开的采购意向仅作为供应商了解初步采购安排的参考，采购项目具体情况以最终发布的采购公告和采购文件为准；标书代写
2.供应商可以通过采购平台反馈参与意向和意见建议。
联系人：吴老师
联系方式：150****2668
招标进度跟踪
2026-02-02
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