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| 高可靠性高功率半导体器件集成电路IDM项目及**集成电路产业园后续基建工程项目-A2废水处理站、7#楼尾气处理间1(丙类)、7#楼尾气处理间2(丙类)、7#氢气纯化间(甲类)-施工许可详情 |
| 施工许可证编号 | 320********2040101 | 发证日期 | 2026-02-04 00:00:00.0 |
| 项目编码 | 320********60003 | 项目代码 | **** |
| 建设用地规划许可证编号 | 建设工程规划许可证编号 | ||
| 合同金额(万元) | 437.6400 | 面积(平方米) | 3589.99 |
| 建设规模 | 总建筑面积:3589.99,地上面积:1589.99平方米,地下面积:2000平方米 | ||
| 施工单位名称 | 统一社会信用代码 | MA1Y930N-5 | |
| 监理单位名称 | 统一社会信用代码 | ||
| 勘察单位名称 | **圣源岩土****公司 | 统一社会信用代码 | ****3244-5 |
| 设计单位名称 | ****研究院****公司 | 统一社会信用代码 | ****0482-4 |