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| **市高精电磁线产业园建设项目 |
| **市 |
| **市-**市 |
| **省**市**市共包括5个地块,地块1位于**经开区灯谷大道以西、新320国道以北;地块2位于经开区科园路以南、明三路以西G-20-02-1地块;地块3位于**经开区明三路以西,新320国道以北G-20-02-2地块;地块4位于**经开区明三路以东,科园路以北;地块5位于**经开区明三路以东,新320国道以北。 |
| 60099万元 |
| 项目总用地面积219281.75平方米(约328.92亩),总建筑面积272226平方米。共包括5个地块的建设。 地块1用地面积12244.33平方米(约18.37亩),建筑面积19976平方米,包括2栋3层标准厂房18516平方米,1栋3层办公综合楼1460平方米,配套建设室外电力、给排水、弱电、道路、绿化、围墙等附属工程。 地块2用地面积41780.59平方米(约62.67亩),建筑面积51880平方米,包括3栋3层标准厂房共37800平方米,1栋2层标准厂房8400平方米,1栋5层科研楼5680平方米,配套建设室外电力、给排水、弱电、道路、绿化、围墙等附属工程。 地块3用地面积38072.21平方米(约57.11亩),建筑面积46200平方米,包括3栋3层标准厂房共37800平方米,1栋2层标准厂房8400平方米,配套建设室外电力、给排水、弱电、道路、绿化、围墙等附属工程。 地块4用地面积66682.69平方米(约100.02亩),建筑面积81080平方米,包括5栋3层标准厂房67800平方米,1栋2层标准厂房8600平方米,1栋3层综合楼4680平方米,配套建设室外电力、给排水、弱电、道路、绿化、围墙等附属工程。 地块5用地面积60501.93平方米(约90.75亩),建筑面积73090平方米,包括5栋3层标准厂房61500平方米,1栋2层标准厂房7720平方米,1栋3层综合楼3870平方米,配套建设室外电力、给排水、弱电、道路、绿化、围墙等附属工程。 |
| 2026年03月 |
| 2028年03月 |
| 备案类 |
| 未备案 |