原子层沉积机(HITSZWJ260002)采购公告

发布时间: 2026年02月09日
摘要信息
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项目名称 项目编号 公告开始日期 公告截止日期 采购单位 付款方式 联系人 联系电话 签约时间要求 到货时间要求 预算总价 发票要求 含税要求 送货要求 安装要求 收货地址 供应商资质要求 公告说明
原子层沉积机****
2026-02-09 08:37:422026-02-13 10:00:00
****(**)预付款70%,到货验收后尾款30%
签约后180个日历日内
¥700000.00
****(**)理学楼

符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件


采购清单1
采购商品 采购数量 计量单位 所属分类
原子层沉积设备 1 其他机械设备
品牌 型号 预算单价 技术参数及配置要求 参考链接 售后服务
**科民****公司
TALD-100
¥ 700000.00
1. 腔室:独立的内外嵌套双腔结构,内腔安装在外腔内; 2. 外腔:真空加热腔,对整个内腔进行加热,外层设置有水冷循环装置;内侧设有多层热反射装置,提高内腔升温效率,外腔设置有维护口,方便打开维护; 3. 内腔:可拆卸内反应腔,负责工艺执行。需要维护时,可直接将整个内腔取下更换维护。压差自压合机构可使内腔腔盖与内腔腔体自动压合密封; 4. 内腔最大可放置直径4英寸晶圆,向下兼容,标配两套内腔,高温、低温、特殊工艺内腔可选; 5. 反应温度:最高450℃(低温内腔250℃),1套低温工艺内腔50-250℃;1套高温工艺内腔100-450℃,可自由搭配,温度控制精度±1℃; 6. 4路标准加热液态前驱体源,配置高温快速ALD阀(响应时间<15ms)、手动阀、50ml不锈钢源瓶,源瓶及管路加热温度RT-200℃,控制精度±1℃; 7. 1路常温源,配置快速ALD阀(响应时间<15ms)、手动阀、50ml不锈钢源瓶; 8. 预留:预留1个臭氧接口; 9. 在 4 英寸硅晶圆上以厂家提供的工艺配方沉积 300 循环氧化钛,以晶圆上至少9个均匀分散点进行膜厚测试,膜厚非均匀性≤±5%为合格;;

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