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氩离子刻蚀枪（清采比选20260094号）成交结果公告
招标详情
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***********公司企业信息
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成交信息
成交供应商：****
| 氩离子刻蚀枪 | 项目编号**** | |
| 2026-01-23 08:16:47 | 公告截止日期2026-01-26 09:00:00 | |
| **** | 付款方式合同签订后70%，验收合格后30% | |
| 联系电话 | ||
| 到货时间要求 | 签订合同后120个自然日内 | |
| ￥ 120000.00 | ||
| **市**** | ||
| 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 | ||
采购清单index
| 氩离子刻蚀腔 | 1 | 台 |
| ￥ 120000.00 |
| 氩离子枪（Ion Gun）技术参数说明 设备类型：抽取式离子枪（Extractor Type Ion Gun），用于样品表面清洗与离子刻蚀处理 工作气体：高纯氩气（Ar） 主要技术参数： ● 安装法兰：DN 40CF（ConFlat 非旋转法兰接口） ● 能量范围：0.12 keV – 5.00 keV（可调离子能量） ● 电流密度：>120 μA/cm2（测量距离 20 mm 条件下） ● 离子束流密度：典型可达 70 μA/cm2（氩气条件，束斑呈高斯分布） ● 工作距离：30 – 250 mm ● 束斑直径（FWHM）：与离子能量及工作距离相关（例如：工作距离 30 mm 时约 3 mm） ● 工作真空度：< 1×10 – 1×10 mbar ● 烘烤温度（Bakeout）：最高 250 ℃ ● 阴极类型：氧化钇涂层铱阴极（Yttrium oxide coated iridium cathode） ● 插入长度：最小 62.5 mm（可定制） ● 工作环境温度：存储温度 40 ℃ ～ 70 ℃ ● 相对湿度：≤ 60% 系统配置要求： ● 需配套专用电源控制系统使用 ● 需配置气体泄漏阀（Leak Valve）实现精确气体导入与稳定工作压强控制 ● 适用于超高真空（UHV）系统环境，满足表面科学、薄膜生长、样品表面清洗与刻蚀等实验需求 功能特点： ● 高稳定性离子束输出 ● 可控能量与束流密度调节 ● 束斑均匀、空间分布稳定 ● 适用于 STM、ARPES、MBE、UHV 表面处理系统等高真空平台集成 ● 满足科研级精密表面处理与离子刻蚀应用需求 |
| 12个月 |
招标进度跟踪
2026-02-13
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