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超高真空物理气相沉积设备
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600000.00
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***********公司企业信息
****2026年02月至2026年03月政府采购意向-超高真空物理气相沉积设备 详细情况
| 超高真空物理气相沉积设备 | |
| 项目所在采购意向： | ****2026年02月至2026年03月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 超高真空物理气相沉积设备 |
| 预算金额： | 60.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | |
| 采购需求概况 ： |
采购内容:超高真空物理气相沉积设备 采购数量:1.0000台 主要功能或目标:应采用当前高校及科研院所认可且采纳的先进磁控溅射技术，其配套真空系统、磁控溅射系统的性能应处于业内领先水平，进而满足超高真空条件下高性能薄膜沉积、材料表面改性及功能薄膜前驱体制备等多种科研需求。 需满足的要求:该设备将主要用于高性能功能薄膜沉积及掺杂改性（如Zn-Ni耐蚀薄膜、ZnO光催化薄膜等）、多孔铜薄膜材料的表面改性及多孔薄膜前驱体的沉积（如Cu-Mn、Cu-Zn前驱体）等
|
| 预计采购时间： | 2026-03 |
| 备注： |
无
|
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
招标进度跟踪
2026-02-13
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