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激光冷壁CVD系统（2026预算241-DG）
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***********公司企业信息
****2026年2月政府采购意向-激光冷壁CVD系统（****） 详细情况
| 激光冷壁CVD系统（****） | |
| 项目所在采购意向： | ****2026年2月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 激光冷壁CVD系统（****） |
| 预算金额： | 160.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****0699-其他试验仪器及装置
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| 采购需求概况 ： |
我所将开展电子在“阿秒-纳米尺度”下进行实空间成像和近场光谱观测的研究。实验对样品表面的平整度、洁净度都有很高的要求。生长含高挥发性硫属、卤族等元素的高质量低维晶体材料，这些材料极易吸附在真空腔壁上而不适宜在超高真空分子束外延系统中制备，激光冷壁CVD系统可以生长一些分子束外延系统无法制备的材料，作为对分子束外延系统样品制备单元的补充。分子束外延系统通常是使用固体的高纯材料作为样品生长的前驱体，在生长材料体系上有一定的局限性，例如较难生长含磷化合物、含硫化合物和含卤化合物，激光冷壁CVD系统可以弥补该不足。作为一种等离子体强化CVD薄膜制备技术，激光冷壁CVD系统具有膜沉积温度低、沉积速度快等优点。考虑到上述需求，我们拟购买一台可制备含高挥发性元素材料的激光冷壁CVD系统。
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| 预计采购时间： | 2026-02 |
| 备注： |
2026预算 241 -DG
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本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
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2026-02-14
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激光冷壁CVD系统（2026预算241-DG）
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