碳膜磁控溅射系统

发布时间: 2026年02月26日
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****2026年6月政府采购意向-碳膜磁控溅射系统 详细情况
碳膜磁控溅射系统
项目所在采购意向: ****2026年6月政府采购意向
采购单位: ****
采购项目名称: 碳膜磁控溅射系统
预算金额: 200.000000万元(人民币)
采购品目:
A****0000-设备_A****0000-电工、电子生产设备_A****0300-电子工业生产设备
采购需求概况 :
碳膜生长设备主要用于界面加固工序中使用。在衬底剥离后,在GaN外延层表面上溅射生长一层碳膜保护层。在高温退火过程中防止晶圆表面重构
预计采购时间: 2026-06
备注:

本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写

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2026-02-26
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