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| 深腔刻蚀机 | |
| 项目所在采购意向: | ****2026年6月政府采购意向 |
| 采购单位: | **** |
| 采购项目名称: | 深腔刻蚀机 |
| 预算金额: | 250.000000万元(人民币) |
| 采购品目: |
A****0000-设备_A****0000-电工、电子生产设备_A****0300-电子工业生产设备
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| 采购需求概况 : |
刻蚀设备主要用于新一代GaN射频器件背面通孔刻蚀工艺,高质量器件背孔结构可以提升器件的散热性能,降低源串联电感,进而提升器件频率性能。背孔通常深度在50-100μm,直径30-50μm,通孔与底部夹角不小于60°。衬底材料为SiC或金刚石。目前机台配置功率不够,对于大深宽比沟槽刻蚀能力不足,需要配置专用设备满足工艺需求。
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| 预计采购时间: | 2026-06 |
| 备注: | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写