开启全网商机
登录/注册
原子层沉积系统
摘要信息
招标单位
点击查看
招标编号
点击查看
招标估价
4300000.00
招标联系人
点击查看
招标代理机构
点击查看
代理联系人
点击查看
报名截止时间
点击查看
投标截止时间
点击查看
关键信息
点击查看
招标详情
下文中****为隐藏内容，仅对千里马会员开放，如需查看完整内容请
「注册/登录」或 拨打咨询热线：
400-688-2000
相关单位：
***********公司企业信息
****2026年6月政府采购意向-原子层沉积系统 详细情况
| 原子层沉积系统 | |
| 项目所在采购意向： | ****2026年6月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 原子层沉积系统 |
| 预算金额： | 430.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****0000-设备_A****0000-电工、电子生产设备_A****0300-电子工业生产设备
|
| 采购需求概况 ： |
原子层沉积设备是一种可以将物质以单原子膜形式逐层沉积的工艺方法，通常用于沉积高k栅介质、栅金属等薄膜材料。与其他薄膜沉积方法相比，可以精确控制薄层厚度，具有组分可调和保型性好的优势。对于W波段GaN功率器件和防护器件而言，金属功函数的调节具有调控阈值电压、开启电压的重要作用。对于传统蒸发、溅射金属生长工艺，ALD工艺可以通过优化前驱体源的种类和设备生长参数来调节金属与氮化镓之间的势垒，进而调控GaN器件的阈值电压和欧姆接触。因此ALD设备在器件性能提升方面具有重要作用。
|
| 预计采购时间： | 2026-06 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
招标进度跟踪
2026-02-26
招标预告
原子层沉积系统
当前信息
招标项目商机
暂无推荐数据
400-688-2000
欢迎来电咨询～
