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低压化学气相沉积(LPCVD)_氮化硅
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zycgr210****12026年1至12月政府采购意向-低压化学气相沉积(LPCVD)_氮化硅 详细情况
| 低压化学气相沉积(LPCVD)_氮化硅 | |
| 项目所在采购意向： | zycgr210****12026年1至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | zycgr****0801 |
| 采购项目名称： | 低压化学气相沉积(LPCVD)_氮化硅 |
| 预算金额： | 1149.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****0300电子工业生产设备
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| 采购需求概况 ： |
1. 系统组成：由一台主机四根炉管组成； 样品尺寸：25x6” 或25x8”； 主要功能：退火、生长高温氧化硅（LTO）、氮化硅、氧化硅（TEOS）； 2. 数量: 1套 质保期: 1年以上 售后维保:国内必须设有维护点;24小时维修响应
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| 预计采购时间： | 2026-06 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
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2026-02-28
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