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| 化学机械磨抛机 | 1.0/台 | **科晶 | UNIPOL-1203 | 1、超平不锈钢抛光盘(平面度为每 25mm×25mm 小于 0.0025mm)。 2、超精旋转轴(托盘端跳小于 0.01mm)。 3、设有两个加工工位,可分别进行控制。 4、配有全自动控制触摸屏面板,可设置主轴转速、摆臂速度、磨抛时间。 5、配置自动滴料器,流量速率可视化调整,自动研磨和抛光。 6、配置 GPC-100A 精密磨抛控制仪,可调节压力,修整面型,使磨抛更加方便快捷。 7、研磨部分采用防腐材料,耐化学腐蚀。 8、主机部分:电源:220V,功率:450W,磨抛盘转速:10-240rpm,磨抛工位:2 个,摆臂调节档位:1-15 档,托盘端跳:0.008/250mm,不锈钢磨抛盘:φ300mm,载样盘:φ105mm,修盘环:φ127.5mm; 9、精密磨抛控制仪:载样盘直径:Φ103mm,载样盘轴向行程:12mm,数显表精度:0.001mm,载样盘可调加载压力: 0.1kg-2.1kg,压力确认仪有效量程: 1g-5000g,样品装卡方式:真空吸附,承载样件尺寸:直径≤ 103mm、厚度≤12mm,尺寸:外径 146mm,高 266mm; 10、滚筒滴料器:容积:1.5L,流量:0-35ml/min,尺寸:170×290×350mm;重量:3kg; 11、自动滴料器:加液泵:4 个,料液瓶:600ml/瓶,计时范围:1-999min,流量:0.1ml/min-10ml/min,尺寸:230×370×450mm;重量:10kg; | 按行业标准提供服务 |