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| **** | 建设单位代码类型:|
| ****0281MAC67Y3JXX | 建设单位法人:周纬 |
| 刘佳 | 建设单位所在行政区划:**省**市**市 |
| ****开发区东盛路以南,许姚路以西 |
| 半导体薄膜沉积设备研发及生产项目 | 项目代码:**** |
| 建设性质: | |
| 2021版本:098-专业实验室、****基地 | 行业类别(国民经济代码):C3562-C3562-半导体器件专用设备制造 |
| 建设地点: | ******市 ******市 |
| 经度:120.344167 纬度: 31.909444 | ****机关:****开发区管理委员会 |
| 环评批复时间: | 2024-05-06 |
| 澄高行审环〔2024〕9号 | 本工程排污许可证编号:****0281MAC67Y3JXX001X |
| 2026-01-26 | 项目实际总投资(万元):50000 |
| 1000 | 运营单位名称:**** |
| ****0281MAC67Y3JXX | 验收监测(调查)报告编制机构名称:**** |
| ****0281MAC67Y3JXX | 验收监测单位:******公司,******公司 |
| 913********624132Q,****0509MA2078E0XL | 竣工时间:2025-08-13 |
| 调试结束时间: | |
| 2026-01-29 | 验收报告公开结束时间:2026-03-03 |
| 验收报告公开载体: | https://gongshi.****.com/h5public-detail?id=500325 |
| ** | 实际建设情况:** |
| 无 | 是否属于重大变动:|
| 年产半导体薄膜沉积设备50台、研发测试8000次 | 实际建设情况:年产半导体薄膜沉积设备50台、研发测试2000次 |
| 第一阶段仅见设部分产能 | 是否属于重大变动:|
| 薄膜沉积研发、性能测试、设备及硅片清洗、组装、调校测试、包装 | 实际建设情况:薄膜沉积研发、性能测试、设备及硅片清洗、组装、调校测试、包装 |
| 本次第一阶段研磨工艺暂未建设,设备及硅片清洗工序中的硅片委外清洗。 | 是否属于重大变动:|
| 废气:薄膜沉积研发、性能测试、设备及硅片清洗环节产生的氟化物、氮氧化物(以NO2计)、氯化氢、氨、异丙醇等废气,酸性气体经配套的TA001收集处理后,尾气通过一根20米高排气筒(DA001)排放;氨经配套的TA002收集处理后,尾气通过一根20米高排气筒(DA0012)排放;异丙醇经配套的TA003收集处理后,收集处理后,尾气通过一根20米高排气筒(DA003)排放。 废水:喷淋洗涤吸收废水等工艺废水经厂内废水处理设施处理后与生活区生活污水经化粪池处理后,一同通过DW001接管口接****处理厂集中处理; | 实际建设情况:废气:本项目第一阶段排放的废气主要为薄膜沉积研发工序产生的研发废气(氟化物、氨、氮氧化物、氯化氢),性能测试工序产生的测试废气(氟化物)和设备清洁及硅片清洗工序(设备擦拭清洁)产生的擦拭清洁废气(异丙醇)。其中薄膜沉积研发等环节产生的氟化物、氮氧化物(以NO2计)、氯化氢等酸性气体和性能测试环节清洁过程中产生的氟化物经配套的POU+碱喷淋洗涤吸收装置收集处理后,尾气通过一根33米高排气筒(DA001)排放;薄膜沉积研发环节产生的氨经配套的酸喷淋洗涤吸收装置收集处理后,尾气通过一根33米高排气筒(DA002)排放;设备清洁及硅片清洗环节(腔体擦拭清洁)产生的有机废气(异丙醇)经配套的二级活性炭吸附装置收集处理后,收集处理后,尾气通过一根33米高排气筒(DA003)排放。未捕集的异丙醇在车间内无组织排放。 废水:生活污水经化粪池处理后排入市政污水管网,进****处理厂处理。喷淋洗涤吸收废水等工艺废水经厂内废水处理设施处理后通过DW001接管口专管接入**高新区******公司污水处理厂集中处理,执行接管标准,处理达标后尾水排入长江。 |
| 设备擦拭环节挥发产生的异丙醇由环评设计的无组织排放改为收集后经二级活性炭吸附装置TA003处理后经排气筒DA003排放,提高了对废气的收集处理能力,减少了废气的排放;环评中三个排气筒高度为20米,实际超出厂房高度,为33米,利于扩散。生活污水经化粪池处理后经DW002排入市政污水管网,进****处理厂;喷淋洗涤吸收废水等工艺废水经厂内废水处理设施处理后通过DW001接管口专管接入**高新区******公司污水处理厂集中处理,同时公司纯水制备浓水、纯水制备系统反冲洗环评中均作为清下水外排雨水管网,实际均进入处理设施后外排******公司污水处理厂。公司与**高新区******公司污水处理厂签订了污水处理协议。 | 是否属于重大变动:|
| 无 | 实际建设情况:无 |
| 无 | 是否属于重大变动:|
| 0 | 0.8 | 139860 | 0 | 0 | 0.8 | 0.8 | |
| 0 | 0.262 | 27.019 | 0 | 0 | 0.262 | 0.262 | |
| 0 | 0.0761 | 0.551 | 0 | 0 | 0.076 | 0.076 | |
| 0 | 0.0074 | 0.03 | 0 | 0 | 0.007 | 0.007 | |
| 0 | 0.1054 | 1.64 | 0 | 0 | 0.105 | 0.105 | |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | / |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | / |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | / |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | / |
| 0 | 0.0019 | 0.0035 | 0 | 0 | 0.002 | 0.002 | / |
| 1 | 废水处理设施 | 污水处理厂接管标准 | 废水处理设施 | 排放浓度均满足接管标准 |
| 1 | POU+碱喷淋洗涤吸收装置+33米高DA001排气筒 | 《半导体行业污染物排放标准》(DB32/3747-2020)表3 | POU+碱喷淋洗涤吸收装置+33米高DA001排气筒 | 废气排放浓度和排放速率均达标排放 | |
| 2 | POU+酸喷淋洗涤吸收装置+33米高DA002排气筒 | 《半导体行业污染物排放标准》(DB32/3747-2020)表3 | POU+酸喷淋洗涤吸收装置+33米高DA002排气筒 | 废气排放浓度和排放速率均达标排放 | |
| 3 | 二级活性炭吸附+33米高DA003排气筒 | 《半导体行业污染物排放标准》(DB32/3747-2020)表3 | 二级活性炭吸附+33米高DA003排气筒 | 废气排放浓度和排放速率均达标排放 |
| 1 | 本项目危险废物定期收集,一般固废每周收集一次,生活垃圾每天收集一次;本项目固体废物贮存场所面积50m2(危险废物贮存场所30m2,一般固废贮存场所20m2),能够满足贮存需求。 | 危险废物、生活垃圾分类收集。项目配套建设了符合《危险废物贮存污染控制标准》(GB18597-2001)的危废仓库,根据暂存的危废种类,建设了3个17.5m2的危废仓库(碱性危废储藏室、酸性危废储藏室、有机危废储藏室),产生的危险废物暂存于危废仓库,已与******公司签订危废处置协议,由危废处置单位外运合理处置,不外排;一般固体废物委托****处置;生活垃圾由**高新区****公司统一清运处理。 本项目产生的固废有效处置,零外排。 |
| 无 | 验收阶段落实情况:无 |
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| 无 | 验收阶段落实情况:无 |
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| 无 | 验收阶段落实情况:无 |
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| 无 | 验收阶段落实情况:无 |
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| 无 | 验收阶段落实情况:无 |
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| 无 | 验收阶段落实情况:无 |
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| 1 | 未按环境影响报告书(表)及其审批部门审批决定要求建设或落实环境保护设施,或者环境保护设施未能与主体工程同时投产使用 |
| 2 | 污染物排放不符合国家和地方相关标准、环境影响报告书(表)及其审批部门审批决定或者主要污染物总量指标控制要求 |
| 3 | 环境影响报告书(表)经批准后,该建设项目的性质、规模、地点、采用的生产工艺或者防治污染、防止生态破坏的措施发生重大变动,建设单位未重新报批环境影响报告书(表)或环境影响报告书(表)未经批准 |
| 4 | 建设过程中造成重大环境污染未治理完成,或者造成重大生态破坏未恢复 |
| 5 | 纳入排污许可管理的建设项目,无证排污或不按证排污 |
| 6 | 分期建设、分期投入生产或者使用的建设项目,其环境保护设施防治环境污染和生态破坏的能力不能满足主体工程需要 |
| 7 | 建设单位因该建设项目违反国家和地方环境保护法律法规受到处罚,被责令改正,尚未改正完成 |
| 8 | 验收报告的基础资料数据明显不实,内容存在重大缺项、遗漏,或者验收结论不明确、不合理 |
| 9 | 其他环境保护法律法规规章等规定不得通过环境保护验收 |
| 不存在上述情况 | |
| 验收结论 | 合格 |