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低温高选择性气相沉积工艺炉（XJ-WSBX-2600045）采购公告

公告-招标公告

浙江 -杭州

发布时间： 2026年03月10日

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低温气相工艺采购公告

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项目名称项目编号公告开始日期公告截止日期采购单位付款方式联系人联系电话签约时间要求到货时间要求预算总价发票要求含税要求送货要求安装要求收货地址供应商资质要求公告说明

低温高选择性气相沉积工艺炉	****
2026-03-10 11:25:52	2026-03-17 13:00:00
****	货到付款，甲方在到货验收后15日内向乙方一次性支付本项目的总额

	成交后30个工作日内
￥370000.00




****港校区开物苑3**实验室
符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件

采购清单1

采购商品采购数量计量单位所属分类

低温高选择性气相沉积工艺炉

台

电子工业生产设备

品牌型号预算单价技术参数及配置要求参考链接售后服务

￥ 370000.00

1. 极限真空度要求必须达到5×10^-6 Torr以上，且从大气抽至最高极限真空度的总时间不超过30分钟。 2. 加热区数量应≥3个（独立控温），控温精度为±1℃。 3. 质量流量计（MFC）配置不少于4路，控制精度需达到±1%满量程或±0.1 sccm。 4. 内置CNT自动工艺参数：工艺包需包含针对特定催化剂（如Fe、Co、Ni）的自动升温程序。要求现场演示或提供数据证明，在低温条件下（如500-700℃），通过内置参数能够实现碳纳米管的选择性生长，长度可控、直径均匀、且无明显非晶碳杂质的CNT阵列 5. 内置MoS2自动工艺参数：工艺包内置的参数能够通过简单的载气切换（如从纯Ar切换至Ar+H2混合气），自动执行两步生长法。要求现场演示或提供数据证明，证明该内置参数可稳定产出具有清晰界面的单晶异质结，且材料的荧光（PL）光谱显示其具有高质量的晶体特性 6.反应腔体材质：反应管必须是高纯度石英或定制的高温合金，且配备水冷法兰密封系统 7. 压力控制模式：设备需支持常压、低压（LPCVD）和高真空多种模式切换

服务网点:当地;电话支持:7x24小时;质保期:5年;服务时限:报修后2小时;商品承诺:原厂全新未拆封正品;

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招标进度跟踪

2026-03-10

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