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磁控溅射仪
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500000.00
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相关单位：
***********公司企业信息
****政府采购意向公告-磁控溅射仪 详细情况
| 磁控溅射仪 | |
| 项目所在采购意向： | ****政府采购意向公告 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 磁控溅射仪 |
| 预算金额： | 50.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | |
| 采购需求概况 ： |
“硬件部分要求：具体参数： 1.在基板中φ100mm的区域内，膜厚度的偏差在±5％之内； 2.使用标准RF电源提供的脉冲模式，也可以溅射陶瓷类靶材； 3.在沉积期间，基底支架可旋转或静止。“
|
| 预计采购时间： | 2026-05 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
招标进度跟踪
2026-03-11
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