原子层沉积-有机蒸镀一体设备采购公示

发布时间: 2026年03月11日
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原子层沉积-有机蒸镀一体设备采购公示
发布时间:2026-03-11


项目名称:原子层沉积-有机蒸镀一体设备

采购单位:****

采购方式:询价

成交单位:****

成交价格:48.9万元

购买数量:1套

产品型号:纳锋/NCE-200R

评审日期:2026年3月10日

设备主要技术参数

1基片加热温度最高≥350℃,控温精度≤±1℃;

2反应腔具有独立的双温区加热设计,保证反应腔热壁的状态;

3单片反应腔抽取真空速度须在1分钟内达到5×10-2 Torr,充腔时间须在3分钟内完成;

4为确保没有前驱体冷凝,避免由于冷凝导致交叉污染、堵塞纳米孔洞入口、颗粒等问题,前驱源管路壁具有加热系统,加热温度不低于200℃;

5提供成熟的制程工艺包,如Al2O3、TiO2、HfO2、ZnO、SnO2等薄膜的工艺包

公示时间:2026.3.11-2026.3.17,异议拨打****3334向刘莉莉老师反映。

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2026年3月10日


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2026-03-11
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