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| 发布时间:2026-03-11
项目名称:原子层沉积-有机蒸镀一体设备 采购单位:**** 采购方式:询价 成交单位:**** 成交价格:48.9万元 购买数量:1套 产品型号:纳锋/NCE-200R 评审日期:2026年3月10日 设备主要技术参数: 1基片加热温度最高≥350℃,控温精度≤±1℃; 2反应腔具有独立的双温区加热设计,保证反应腔热壁的状态; 3单片反应腔抽取真空速度须在1分钟内达到5×10-2 Torr,充腔时间须在3分钟内完成; 4为确保没有前驱体冷凝,避免由于冷凝导致交叉污染、堵塞纳米孔洞入口、颗粒等问题,前驱源管路壁具有加热系统,加热温度不低于200℃; 5提供成熟的制程工艺包,如Al2O3、TiO2、HfO2、ZnO、SnO2等薄膜的工艺包 公示时间:2026.3.11-2026.3.17,如有异议请拨打****3334向刘莉莉老师反映。 **** 2026年3月10日
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