高精度微纳加工与分析系统

发布时间: 2026年03月13日
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****2026年4至6月政府采购意向-高精度微纳加工与分析系统 详细情况
高精度微纳加工与分析系统
项目所在采购意向: ****2026年4至6月政府采购意向
采购单位: ****
采购项目名称: 高精度微纳加工与分析系统
预算金额: 480.000000万元(人民币)
采购品目:
A****0404 光学式分析仪器
采购需求概况 :
****拟采购一套高精度微纳加工与分析系统,用于材料微观结构观察、三维表征、透射电镜样品制备及纳米级加工。主要采购需求如下:(1)离子光学系统采用液态镓离子源,分辨率≤3nm@30kV,探针电流范围为1pA~65nA,加速电压范围为500V~30kV;(2)电子光学系统采用肖特基场发射电子枪,分辨率能达到0.9nm@15kV,加速电压范围为20V~30kV ,束流范围为1pA~20nA;(3)质保期:验收合格后1年以上。
预计采购时间: 2026-06
备注:

本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写

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2026-03-13
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