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| 高精度微纳加工与分析系统 | |
| 项目所在采购意向: | ****2026年4至6月政府采购意向 |
| 采购单位: | **** |
| 采购项目名称: | 高精度微纳加工与分析系统 |
| 预算金额: | 480.000000万元(人民币) |
| 采购品目: |
A****0404 光学式分析仪器
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| 采购需求概况 : |
****拟采购一套高精度微纳加工与分析系统,用于材料微观结构观察、三维表征、透射电镜样品制备及纳米级加工。主要采购需求如下:(1)离子光学系统采用液态镓离子源,分辨率≤3nm@30kV,探针电流范围为1pA~65nA,加速电压范围为500V~30kV;(2)电子光学系统采用肖特基场发射电子枪,分辨率能达到0.9nm@15kV,加速电压范围为20V~30kV ,束流范围为1pA~20nA;(3)质保期:验收合格后1年以上。
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| 预计采购时间: | 2026-06 |
| 备注: | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写