脉冲激光沉积设备

A****0309激光仪器

大尺寸单晶金刚石是高端半导体、量子器件及极端光学领域的核心战略材料。拟采购的设备是异质外延法制备大尺寸单晶金刚石的关键设备之一，可用于研制4英寸以上的异质外延成核样品，对突破单晶尺寸限制、推动产业化进程、支撑我国第三代半导体和量子信息等战略性产业发展具有重要意义。 采购数量：1套。 技术参数： 1.基片尺寸：4英寸 2.加热温度：900℃ 3.加热方式：电阻式 4.靶材：3个2英寸 5.腔体模块：PLD+进样室+磁控室 6.真空度：9×10-6 Pa 7.RHEED：原位分析与监控，实时观测薄膜质量及厚度。 8.磁控溅射系统：一个直流靶沉积金属，PLD室沉积结束，不破真空条件下转移至磁控腔室继续沉积。 售后服务 1、仪器到达最终用户现场后，在接到用户通知一周内，卖方安排有经验的工程技术人员到用户现场安装、调试，按验收指标逐项测试至到达到验收要求；仪器的安装调试需在接到用户通知后30日内完成。 2、技术培训：仪器安装调试合格后，卖方工程师在买方现场对买方人员进行操作及日常维护培训，直到买方人员能独立操作。 3、维修响应时间：卖方应在24小时内对用户的服务要求作出响应，如果需要上门服务，保证在5个工作日内到达用户现场。 4、保修期：不低于保修期一年，时间从安装调试验收合格后开始计算。 5、有完善的售后服务体系，有十年以上工作经验的工程师，需要提供工程师名单。有良好的销售业绩，在中国地区微焦斑转靶销售台式不少于20台，需要提供用户名单。 6、提供使用手册、专用工具和备品备件。