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| **** | 建设单位代码类型:|
| ****0185MA2KDQWR58 | 建设单位法人:仇圣棻 |
| 孙海滨 | 建设单位所在行政区划:**省**市**市 |
| **省**市**区**街道崇文路1788号 |
| ****ReRAM新型存储器中小产线项目(一期工程)竣工环境保护(先行)验收项目 | 项目代码:**** |
| 建设性质: | |
| 2021版本:080-电子器件制造 | 行业类别(国民经济代码):C3973-C3973-集成电路制造 |
| 建设地点: | **省**市**市 **省**市**区**街道崇文路1788号 |
| 经度:119.81201 纬度: 30.27597 | ****机关:****环境局**分局 |
| 环评批复时间: | 2021-10-27 |
| 杭临环评审〔2021〕112号 | 本工程排污许可证编号:****0185MA2KDQWR58001X |
| 2024-11-04 | 项目实际总投资(万元):50000 |
| 100 | 运营单位名称:**** |
| ****0185MA2KDQWR58 | 验收监测(调查)报告编制机构名称:**** |
| ****0185MA2KDQWR58 | 验收监测单位:******公司 |
| ****0109MABQYH9N86 | 竣工时间:2025-09-30 |
| 2025-10-20 | 调试结束时间:2026-04-19 |
| 2026-02-06 | 验收报告公开结束时间:2026-03-12 |
| 验收报告公开载体: | https://gongshi.****.com/h5public-detail?id=501906 |
| 昕原半****公司拟投资33356.4万元,**省**市**区**街道崇文路1788 号实施ReRAM 新型存储器中小产线项目(一期工程),建成后形成年产可变电阻式随机存取存储器3600片300mm(12英寸)芯片产能。 | 实际建设情况:昕原半****公司本次验收涉及投资约20000万元,总投资已达约50000万元,**省**市**区**街道崇文路1788 号实施ReRAM 新型存储器中小产线项目(一期工程),目前已形成年产可变电阻式随机存取存储器2880片300mm(12英寸)芯片的产能。 |
| 项目审批产能年产可变电阻式随机存取存储器3600片300mm(12英寸)芯片,目前已达产能年产可变电阻式随机存取存储器2880片300mm(12英寸)芯片,本次属于先行验收。 | 是否属于重大变动:|
| 昕原半****公司拟投资33356.4万元,**省**市**区**街道崇文路1788 号实施ReRAM 新型存储器中小产线项目(一期工程),建成后形成年产可变电阻式随机存取存储器3600片300mm(12英寸)芯片产能。 | 实际建设情况:昕原半****公司本次验收涉及投资约20000万元,总投资已达约50000万元,**省**市**区**街道崇文路1788 号实施ReRAM 新型存储器中小产线项目(一期工程),目前已形成年产可变电阻式随机存取存储器2880片300mm(12英寸)芯片的产能。 |
| 项目审批产能年产可变电阻式随机存取存储器3600片300mm(12英寸)芯片,目前已达产能年产可变电阻式随机存取存储器2880片300mm(12英寸)芯片,本次属于先行验收。 | 是否属于重大变动:|
| 本项目涉及工艺有沉积工艺、黄光工艺、刻蚀工艺、清洗工艺、镀膜工艺、研磨工艺、清洗/退火工艺、WAT测试、CP测试。 | 实际建设情况:本项目实际已建成的工艺有沉积工艺、黄光工艺、刻蚀工艺、清洗工艺、镀膜工艺、研磨工艺。目前退火工艺及测试工艺暂未配置。 |
| 退火工艺及测试工艺相关涉及仪器暂未配置。 | 是否属于重大变动:|
| 1、废水: 综合废水:包括一般酸碱废水、含研磨液抛光废水进入驰拓综合废水处理系统,经过调节pH、混凝、搅拌、沉淀处理,达到《电子工业水污染物排放标准》(GB39731-2020)中的表1 水污染物排放限值中的间接排放半导体器件标准后纳管。 含氟废水:包括金属刻蚀后清洗含氟废水、含氟清洗废水、背面清洗废水、含氟抛光废水、尾气处理废水、碱液喷淋废水利用氯化钙混合去除氟离子后进行混凝、搅拌、沉淀处理,达到《电子工业水污染物排放标准》(GB39731-2020)中的表1 水污染物排放限值中的间接排放半导体器件标准后纳管。 含铜废水:含铜沉积废水经过含铜废水处理系统处理后达到《电子工业水污染物排放标准》(GB39731-2020) 中的表1水污染物排放限值中的间接排放半导体器件标准后纳管。 生活污水:生活污水经化粪池处理后纳管排放。 2、废气: 干法刻蚀废气和上电极掩膜沉积废气、金属通孔连接层沉积废气:****公司自带的尾气处理装置燃烧后水洗去除,燃烧产生少量的二氧化硅,排放速率和排放浓度可达到《大气污染物综合排放标准》(GB16297-1996) 颗粒物二级排放标准,因二氧化硅(颗粒物)产生量极少,本次评价不做定量分析;另有氮气等无毒气体,以上废气最后经碱液喷淋塔喷淋处理后,经25m高排气筒(P1)排放。酸性废气:包括HF、硫酸雾、氮氧化物,统一收集,通过碱液喷淋塔处理后25m高排气筒(P1)排放。有机废气:设备维护清洗产生的异丙醇有机废气通过洁净车间抽风系统 排至活性炭吸附装置处理后25m高排气筒(P2)排放;上电极金属沉积前清洗、金属刻蚀后清洗、金属层抛光异丙醇干燥废气经机台集气罩收集后采用活性炭吸附装置处理后25m高排气筒(P2)排放。 3、固废 废刻蚀液、废酸液通过驰拓提供的储罐存放在危废间,委托有资质单位处理;废异丙醇无尘布、化学品包装材料、废活性炭(废气、废水处理)、废机油、含铜污泥、废树脂、废滤芯等委托有资质单位处置;一般包装材料外售物资单位综合利用;生活垃圾委托环卫统一清运。 4、噪声 (1)车间内合理布局; (2)做好设备及墙体、门窗的隔声措施; (3)加强设备的日常维修和更新,确保其处于正常工况,杜绝因生产设备不正常运行产生的高噪声现象。 | 实际建设情况:1、废水 综合废水:主要为一般酸碱废水、含研磨液抛光废水进入驰拓综合废水处理系统处理达标后纳管。 含氟废水:包括金属刻蚀后清洗含氟废水、含氟清洗废水、背面清洗废水、尾气处理废水、碱液喷淋废水利用氯化钙混合去除氟离子后进行混凝、搅拌、沉淀处理,达标后纳管。 含铜废水:含铜沉积废水经过含铜废水预处理,达标后纳管排放。 生活污水:生活污水经化粪池处理后纳管排放。 2、废气 干法刻蚀废气、上电极掩膜沉积废气、金属通孔连接层沉积废气:****公司自带的尾气处理装置燃烧后水洗去除,燃烧产生少量二氧化硅,另有氮气等无毒气体,以上废气最后经碱液喷淋塔喷淋处理后,经25m 高排气筒(P1)排放。 酸性废气:包括HF、硫酸雾、氮氧化物,统一收集,通过碱液喷淋塔处理后25m高排气筒(P1)排放。 有机废气:设备维护清洗产生的异丙醇有机废气通过洁净车间抽风系统排至活性炭吸附装置处理后25m高排气筒(P2)排放; 上电极金属沉积前清洗、金属刻蚀后清洗废气经机台集气罩收集后采用活性炭吸附装置处理后25m 高排气筒(P2)排放。 金属层抛光废气:产生的氟化物通过碱液喷淋塔处理后25m高排气筒(P1)排放; 各清洗工序产生的异丙醇排至活性炭吸附装置处理后25m高排气筒(P2)排放。 3、固废 危险废物收集后存放至****公司提供的危废仓库内,然后委托有资质单位(目前委托******公司)处置;一般包装材料外售物资单位综合利用;生活垃圾委托环卫统一清运。 4、噪声 (1)车间内合理布局; (2)做好设备及墙体、门窗的隔声措施; (3)加强设备的日常维修和更新,确保其处于正常工况,杜绝因生产设备不正常运行产生的高噪声现象。 |
| 无 | 是否属于重大变动:|
| 无 | 实际建设情况:无 |
| 无 | 是否属于重大变动:|
| 0 | 1.3585 | 1.8347 | 0 | 0 | 1.358 | 1.358 | |
| 0 | 0.679 | 0.917 | 0 | 0 | 0.679 | 0.679 | |
| 0 | 0.068 | 0.092 | 0 | 0 | 0.068 | 0.068 | |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | / |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | / |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | / |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | / |
| 0 | 0.0001 | 0.119 | 0 | 0 | 0 | 0 | / |
| 1 | 综合废水处理系统(pH调节、混凝、搅拌、沉淀处理)、含氟废水处理系统、含铜废水处理系统 | 《电子工业水污染物排放标准》(GB 39731-2020) | 综合废水:主要为一般酸碱废水、含研磨液抛光废水进入驰拓综合废水处理系统处理达标后纳管。 含氟废水:包括金属刻蚀后清洗含氟废水、含氟清洗废水、背面清洗废水、尾气处理废水、碱液喷淋废水利用氯化钙混合去除氟离子后进行混凝、搅拌、沉淀处理,达标后纳管。 含铜废水:含铜沉积废水经过含铜废水预处理,达标后纳管排放。 生活污水:生活污水经化粪池处理后纳管排放。 | 综合废水排放口、废水总排放口污染物监测浓度均符合《电子工业水污染物排放标准》(GB 39731-2020)中的表1水污染物排放限值中的间接排放半导体器件标准,其中基准排水量符合《电子工业水污染物排放标准》(GB 39731-2020)中的表2单位产品基准排水量中的半导体器件掩膜层数35层及以下12英寸芯片的标准。 |
| 1 | 碱喷淋、活性碳吸附装置 | 《大气污染物综合排放标准》(GB16297-1996) 、《大气污染物综合排放标准》(**市地方标准DB31/933-2015) | 干法刻蚀废气、上电极掩膜沉积废气、金属通孔连接层沉积废气:****公司自带的尾气处理装置燃烧后水洗去除,燃烧产生少量二氧化硅,另有氮气等无毒气体,以上废气最后经碱液喷淋塔喷淋处理后,经25m 高排气筒(P1)排放。 酸性废气:包括HF、硫酸雾、氮氧化物,统一收集,通过碱液喷淋塔处理后25m高排气筒(P1)排放。 有机废气:设备维护清洗产生的异丙醇有机废气通过洁净车间抽风系统排至活性炭吸附装置处理后25m高排气筒(P2)排放; 上电极金属沉积前清洗、金属刻蚀后清洗废气经机台集气罩收集后采用活性炭吸附装置处理后25m 高排气筒(P2)排放。 金属层抛光废气:产生的氟化物通过碱液喷淋塔处理后25m高排气筒(P1)排放; 各清洗工序产生的异丙醇排至活性炭吸附装置处理后25m高排气筒(P2)排放。 | 酸性废气排放口氮氧化物、氟化物、颗粒物排放浓度及排放速率符合《大气污染物综合排放标准》中的相关标准;有机废气排放口的异丙醇排放浓度符合《**大气污染物综合排放标准》(DB31-933-2015)中表1 和附录A.4C类物质标准。 在监测日工况条件下,厂界无组织废气氮氧化物、氟化物、颗粒物、非甲烷总烃排放浓度符合《大气污染物综合排放标准》中的相关标准;厂区内非甲烷总烃浓度符合《挥发性有机物无组织排放控制标准》(GB 37822-2019)表A.1特别排放浓度限值。 |
| 1 | 减振降噪措施 | 《工业企业厂界环境噪声排放标准》GB 12348-2008 | (1)车间内合理布局; (2)做好设备及墙体、门窗的隔声措施; (3)加强设备的日常维修和更新,确保其处于正常工况,杜绝因生产设备不正常运行产生的高噪声现象。 | 在监测日工况条件下,工业企业厂界环境噪声昼间、夜间值均符合《工业企业厂界环境噪声排放标准》GB 12348-2008表1中2类区限值要求。 |
| 1 | 废刻蚀液、废酸液通过驰拓提供的储罐存放在危废间,委托有资质单位处理;废异丙醇无尘布、化学品包装材料、废活性炭(废气、废水处理)、废机油、含铜污泥、废树脂、废滤芯等委托有资质单位处置;一般包装材料外售物资单位综合利用;生活垃圾委托环卫统一清运。 | 本项目实施后,产生的副产物主要包括湿法刻蚀中的湿法刻蚀废刻蚀液、废酸液、废包装材料、废异丙醇无尘布、废活性炭、废机油、生活垃圾、含铜污泥、废滤芯、废树脂、废活性炭(废水处理)等。一般固废委托综合利用处置;危险固废委托******公司处置;生活垃圾委托环卫部门统一清运处理。 |
| 无 | 验收阶段落实情况:无 |
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| 无 | 验收阶段落实情况:无 |
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| 无 | 验收阶段落实情况:无 |
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| 无 | 验收阶段落实情况:无 |
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| 无 | 验收阶段落实情况:无 |
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| 无 | 验收阶段落实情况:无 |
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| 1 | 未按环境影响报告书(表)及其审批部门审批决定要求建设或落实环境保护设施,或者环境保护设施未能与主体工程同时投产使用 |
| 2 | 污染物排放不符合国家和地方相关标准、环境影响报告书(表)及其审批部门审批决定或者主要污染物总量指标控制要求 |
| 3 | 环境影响报告书(表)经批准后,该建设项目的性质、规模、地点、采用的生产工艺或者防治污染、防止生态破坏的措施发生重大变动,建设单位未重新报批环境影响报告书(表)或环境影响报告书(表)未经批准 |
| 4 | 建设过程中造成重大环境污染未治理完成,或者造成重大生态破坏未恢复 |
| 5 | 纳入排污许可管理的建设项目,无证排污或不按证排污 |
| 6 | 分期建设、分期投入生产或者使用的建设项目,其环境保护设施防治环境污染和生态破坏的能力不能满足主体工程需要 |
| 7 | 建设单位因该建设项目违反国家和地方环境保护法律法规受到处罚,被责令改正,尚未改正完成 |
| 8 | 验收报告的基础资料数据明显不实,内容存在重大缺项、遗漏,或者验收结论不明确、不合理 |
| 9 | 其他环境保护法律法规规章等规定不得通过环境保护验收 |
| 不存在上述情况 | |
| 验收结论 | 合格 |