高功率泵浦模块与光源系统建设项目拟批准公示

建设地点：****开发区双福路126号；

建设单位：****；

环评机构：****研究所有限公司；

项目概况：****拟在**半导体光电产业园（北区）现有厂房内进行扩建，新增1条高功率泵浦模块生产线和1条光源系统生产线，项目建成后新增年产高功率泵浦模块45000只和光源系统49300套。本项目高功率泵浦模块主要生产工艺：与现有高功率泵浦模块工艺基本一致，超声波清洗（无水乙醇、纯水）-等离子清洗-烧结-陶瓷片粘接-绑线-耦合-安装-复测-镜检-封盖-老化-测试。光源系统主要生产工艺：检验配型-电路安装（焊接）-泵源安装-盘光纤-光纤熔接-测试-灌胶-QA检验-整机组装-测试-老化筛选-检查密封-包装入库。本次项目新增职工30人，本项目建成后全厂员工250人。年工作312天，年工作7488h，实行三班制，每班工作8小时，不设置食堂和宿舍，职工依托**半导体光电产业园食堂就餐。本项目总投资21664.53万元，环保投资10万元，环保投资占比0.046%。

主要环境影响及预防或者减轻不良环境影响的对策和措施如下：

1、大气污染防治措施

新增超声清洗废气经密闭设备、管道收集，光源系统灌胶、密封固化废气经集气罩收集，进入现有二级活性炭吸附装置处理后，通过30m高排气筒DA003排放。非甲烷总烃有组织排放及厂界无组织监控点浓度执行《半导体行业污染物排放标准》（DB32/3747-2020）表3、表4标准，厂区内无组织监控点浓度执行《大气污染物综合排放标准》（DB32/4041-2021）表2标准。

2、废水污染防治措施

新增生活污水经化粪池预处理后****处理厂，尾水排放通甲河，最终汇入新**河。****处理厂接管要求。新增纯水制备浓水****处理厂处理，尾水经金乐二号横河排入新**河。****处理厂接管要求。

3、噪声防治措施

新增噪声源包括超声波清洗机、烧结炉等，通过选用低噪声设备、合理布局、隔声减振等措施，厂界噪声执行《工业企业厂界环境噪声排放标准》（GB12348-2008）3类标准。

4、固体废物防治措施

新增危险废物包括清洗有机废液、剥除废胶、废化学品包装材料、废活性炭，委托有资质单位处置。新增一般工业固废包括废纸板塑料和不合格品，收集后外售。生活垃圾环卫清运。

5、地下水、土壤污染防治措施

源头控制、分区防渗。地下水、土壤污染防治措施均依托现有，重点防渗区包括危废仓库等，等效黏土防渗层Mb≥6.0m，K≤1×10-7cm/s。一般防渗区包括成品仓库、一般固废仓库等，等效黏土防渗层Mb≥1.5m，K≤1×10-7cm/s。

公示时间：2026年3月16日～2026年3月20日（5个工作日）

公众反馈意见联系方式：

联系电话：0513-****8926

联系地址：****审批局项目投****服务中心****服务大厅）

邮编：226300

听证告知：依据《中华人民**国行政许可法》，自公告起五日内申请人、利害关系人可对上述拟作出建设项目环境影响评价文件批复决定要求听证。