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| ****40nm-28nm半导体掩模版生产线项目 |
| **市高新区科新二路130号6栋 |
| 195436.8100万元 |
| 本项目拟生产40nm-28nm工艺节点半导体掩模版,项目规划占地面积 约2,500 平方米,建设面积约7,850 平方米,设计年产能为1.5万片,主要生产配套设备涵盖光刻、显影、刻蚀、清洗及检测等类别。 |
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| **高新区发展改革和财政金融局 |
| 2026/03/20 18:15:31 |
| 2026-03-23 |
| 2027-01-01至2029-12-01 |
| 办结(通过) |