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| 拓扑异质结外延设备 | |
| 项目所在采购意向: | ****2026年4至5月政府采购意向 |
| 采购单位: | **** |
| 采购项目名称: | 拓扑异质结外延设备 |
| 预算金额: | 328.000000万元(人民币) |
| 采购品目: |
A****2402 真空应用设备
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| 采购需求概况 : |
****拟采购拓扑异质结外延设备一台。主要采购需求如下:(1)具有脉冲激光沉积真空腔室,真空度≤1×10^-7 torr,薄膜制备精度优于0.3nm;(2)具备激光加热组件,样品温度可加热至1000℃以上;(3)具有薄膜生长表征组件,反射式高能电子衍射仪配备抽气泵组,能够实时监控样品生长状态;(4)具有磁控溅射真空腔室,真空度≤1×10^-8 torr,薄膜制备精度优于0.3nm;(5)具有磁控溅射弱磁及强磁靶,配备直流及射频电源,功率≥50 W;(6)质保期:1年。
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| 预计采购时间: | 2026-05 |
| 备注: | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写