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精密微纳制造中心 磁控溅射系统采购
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***********公司企业信息
****2026年4至6月政府采购意向-****中心 磁控溅射系统采购 详细情况
| ****中心 磁控溅射系统采购 | |
| 项目所在采购意向： | ****2026年4至6月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | ****中心 磁控溅射系统采购 |
| 预算金额： | 230.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****9900其他仪器仪表
|
| 采购需求概况 ： |
包括真空腔体、级联泵、磁控溅射靶枪、样品传送腔等，提升微纳制造中薄膜沉积能力，可以实现多片6英寸多靶位的薄膜材料沉积，如金属，氧化物，半导体等。规格：极限真空优于5E-5Pa；工艺腔从大气抽到5E-4Pa的时间少于30分钟；工艺过程中腔体温度不超过80℃。
|
| 预计采购时间： | 2026-06 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
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2026-04-02
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