超导腔磁控溅射镀膜系统

A****2402真空应用设备

采购名称：超导腔磁控溅射镀膜系统 实现功能：满足在1.3GHz单cell铜腔以及650MHz单cell铜腔内壁进行镀膜，且保证在腔体束管、iris、赤道等部分，获得具有良好均匀性、致密性、结合力的膜层。 采购数量：本次拟采购设备总数量为1套 指标要求：定制磁控阴极靶（磁块可移动），最低移动速率0.5mm/s，运动位置误差＜0.1mm，（待镀工件）加热温度≥250℃，腔体束管、iris、赤道等部分温差＜5℃，本底真空度1.0×10-5Pa（加热烘烤后），漏率≤5.0×10-10mbar﹒l/s ，直流溅射电源：输出功率5Kw，最大输出电压500V，平均电流10A内可调，恒流输出，输出精度为设定值的1%。具备过热保护、闭锁保护、电弧抑制。输出参数精密连续可调。Hipims溅射电源应满足平均功率≥10KW，最大输出电压1000V，最大输出电流1000A，脉宽3000μs内可调，频率10KHz内可调，电弧检测关断＜300ns，具有线路补偿，确保在高频、长电缆条件下仍能获得干净陡峭的脉冲波形，保证能量传递的一致性，具备高效的开关模式电源转换性能，快速的电弧关断与恢复。具备过流保护，电弧管理，Long Ramp，Compensate Line (CLC on/off)等功能，偏压电源：直流偏压电源，工件可加负偏压≥-100V，长时间运行中，输出电压波动＜0.5%，输出参数精密连续可调，具备电弧抑制。镀膜时压力应能在0.1Pa-10Pa范围内实现稳定控制，压力波动应小于±1%，气体流量1sccm-100sccm可调，测量准确度：≤±0.5%F.S，测量线性：≤±0.5%F.S，测量重复精度：≤±0.2%F.S，稳定性：≤0.1%FS，响应时间：≤0.2s，耐压：1MPa，工作压差：0.1~0.5MPa。真空规需满足量程≤1x10-5Pa，准确度：量程范围内≤30%，灯丝材质：钨丝，法兰材质：不锈钢，重复性：量程范围内≤5%。薄膜规需满足量程：0-1Torr，精度：≤0.5%FS，温漂：≤0.04%FS/℃，稳定性：0.5%FS/年，响应时间：≤20ms。质量要求：要求厂家有相关机械加工设备及经验，具备完整的质量管理体系。 服务及安全：质保期1年，发生质量问题时需4h内及时响应，质保期内须满足上门维修或返修条件；质保期外仅收材料及成本费用。产品存储须保持洁净，产品运输保障稳固及安全。 时限：产品交货期限为合同签订后5个月内，如甲方需要可提前分批发货。