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| 化学机械抛光设备 | |
| 项目所在采购意向: | ****2026年6月政府采购意向 |
| 采购单位: | **** |
| 采购项目名称: | 化学机械抛光设备 |
| 预算金额: | 222.000000万元(人民币) |
| 采购品目: |
A****0300
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| 采购需求概况 : |
纳米级化学机械抛光(CMP)是化学腐蚀作用和机械去除作用相结合的加工技术,是目前机械加工中唯一可以实现表面全局平坦化的技术,化学机械抛光技术综合了化学抛光和机械研磨的优势。
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| 预计采购时间: | 2026-06 |
| 备注: | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写