开启全网商机
登录/注册
2106-320543-89-01-299160年产40条异质结太阳能电池片设备整线（重新报批）
项目详情
下文中****为隐藏内容，仅对千里马会员开放，如需查看完整内容请
「注册/登录」或 拨打咨询热线：
400-688-2000
1、建设项目基本信息
企业基本信息
| **** | 建设单位代码类型：|
| 913********804316D | 建设单位法人：周剑 |
| 王峰 | 建设单位所在行政区划：**省**市**区 |
| 大兢路8号 |
建设项目基本信息
| ****年产40条异质结太阳能电池片设备整线（重新报批） | 项目代码：**** |
| 建设性质： | |
| 2021版本:077-电机制造；输配电及控制设备制造；电线、电缆、光缆及电工器材制造；电池制造；家用电力器具制造；非电力家用器具制造；照明器具制造；其他电气机械及器材制造 | 行业类别（国民经济代码）：C3825-C3825-光伏设备及元器件制造 |
| 建设地点： | ******区 ******区 |
| 经度:120.716111 纬度: 31.108333 | ****机关：****开发区管理委员会 |
| 环评批复时间： | 2025-03-12 |
| 吴开环建〔2025〕9号 | 本工程排污许可证编号：913********804316D003W |
| 2025-10-09 | 项目实际总投资(万元)：231156 |
| 500 | 运营单位名称：**** |
| 913********804316D | 验收监测(调查)报告编制机构名称：******公司 |
| ****0509MA1MJ84U5J | 验收监测单位：**市****公司 |
| 913********127367H | 竣工时间：2025-05-01 |
| 调试结束时间： | |
| 2025-10-14 | 验收报告公开结束时间：2025-11-13 |
| 验收报告公开载体： | http://wjhbgz.com/newsshow_1822.html |
2、工程变动信息
项目性质
| 扩建 | 实际建设情况：扩建 |
| / | 是否属于重大变动：|
规模
| 年产40条异质结太阳能电池片设备整线；****中心，研发规模为：晶圆磨划、激光切割、等离子切割研发300批次/a，锂离子电池研发300批次/a，电池片研发6000片/a，电池片表面处理研发1000片/a，半导体化学气象沉积镀膜、物理气象沉积镀膜、等离子蚀刻等技术的研发240批次/a | 实际建设情况：年产40条异质结太阳能电池片设备整线；****中心，研发规模为：晶圆磨划、激光切割、等离子切割研发300批次/a，锂离子电池研发300批次/a，电池片研发6000片/a，电池片表面处理研发1000片/a，半导体化学气象沉积镀膜、物理气象沉积镀膜、等离子蚀刻等技术的研发240批次/a |
| / | 是否属于重大变动：|
生产工艺
| / | 实际建设情况：/ |
| / | 是否属于重大变动：|
环保设施或环保措施
| 晶圆研发废水经厂内1#废水处理设施(“调节-pH调整-混凝-絮凝-沉淀-pH调整-超滤”，处理规模:240t/d)处理达标后经市政污水管****开发区****公司处理:尾水达标排放;电池片研发废水、半导体设备研发废气处理系统产生的喷淋废水及冷却塔强排水经厂内2#废水处理设施(处理工艺:“调节-除双氧水反应-二级除氟-化学软化-pH 调整-生化-水解酸化-缺氧-好氧-MBR-二级RO-MVR蒸发”，处理规模:130t/d)处理达标后回用于冷却塔，不外排;电池片表面处理研发废水经厂内3#废水处理设施(处理工艺:“调节-pH调整-蒸发”，处理规模:20t/d)处理达标后回用于冷却塔，不外排 环评设计： 本项目锂离子研发过程搅拌、涂料、干燥废气引至回收系统进行处理后NMP回用，未收集的于一根15m高1#排气筒有组织排放。 酸洗废气酸洗废气经负压孔吸至碱液洗涤塔处理后经一根15m高2#排气筒排放。 显影、清洗除油、烘干废气经负压吸至二级酸液洗涤塔处理后经一根15m高2#排气筒排放。 沉积废气、镀膜废气、干法蚀刻研发废气进入电加热燃烧+水喷淋处理设施处理后于一根15m高3#排气筒排放。 喷涂、印刷、擦拭、串焊废气进入二级活性炭吸附处理设施处理后于一根15m高4#排气筒排放。 CVD、PVD、干法蚀刻、化学蚀刻、MVCD 等半导体设备研发废气进入等离子燃烧+水喷淋处理设施处理后于一根15m高5#排气筒排放。 | 实际建设情况：晶圆研发废水经厂内1#废水处理设施(“调节-pH调整-混凝-絮凝-沉淀-pH调整-超滤”，处理规模:240t/d)处理达标后经市政污水管****开发区****公司处理:尾水达标排放;电池片研发废水、半导体设备研发废气处理系统产生的喷淋废水及冷却塔强排水经厂内2#废水处理设施(处理工艺:“调节-除双氧水反应-二级除氟-化学软化-pH 调整-生化-水解酸化-缺氧-好氧-MBR-二级RO-MVR蒸发”，处理规模:130t/d)处理达标后回用于冷却塔，不外排;电池片表面处理研发废水经厂内3#废水处理设施(处理工艺:“调节-pH调整-蒸发”，处理规模:20t/d)处理达标后回用于冷却塔，不外排 实际建设： 本项目锂离子研发过程搅拌、涂料、干燥废气引至回收系统进行处理后NMP回用，未收集的于一根45m高1#排气筒有组织排放。 酸洗废气酸洗废气经负压孔吸至碱液洗涤塔处理后经一根60m高2#排气筒排放。 显影、清洗除油、烘干废气经负压吸至二级酸液洗涤塔处理后经一根60m高2#排气筒排放。 沉积废气、镀膜废气、干法蚀刻研发废气进入电加热燃烧+水喷淋+碱洗塔处理设施处理后于一根60m高3#排气筒排放。 擦拭、串焊废气进入二级活性炭吸附处理设施处理后于一根60m高4#排气筒排放。 喷涂废气进入二级活性炭吸附处理设施处理后于一根60m高7#排气筒排放。 印刷废气进入二级活性炭吸附处理设施处理后于一根60m高8#排气筒排放。 CVD、PVD、干法蚀刻、化学蚀刻、MVCD 等半导体设备研发废气进入等离子燃烧+水喷淋+碱洗塔处理设施处理后于一根65m高5#排气筒排放。 |
| 本项目废气处理设施安装位于厂房楼顶，排气筒高度增加；优化废气处理工艺，沉积废气、镀膜废气、干法蚀刻研发废气及CVD、PVD、干法蚀刻、化学蚀刻、MVCD 等半导体设备研发废气处理设施各新增1级碱喷淋，优化废气处理工艺。不属于重大变动 | 是否属于重大变动：|
其他
| / | 实际建设情况：/ |
| / | 是否属于重大变动：|
3、污染物排放量
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | / |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | / |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | / |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | / |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | / |
4、环境保护设施落实情况
表1 水污染治理设施
| 1 | 1#废水处理设施 | 《电池工业污染物排放标准》 （GB30484-2013）表 3 特 别排放限值、《污水综合排放标准》(GB8978-1996)表4三级标准 | 晶圆研发废水经厂内 1#废水处理设施（调节池-PH 调整-混凝池-絮凝池-沉淀池- PH 调整-超滤膜）处理达****处理厂处理 | 验收监测 | |
| 2 | 2#废水处理设施 | 《城市污水再生利用工业用水水质》（GB/T19923-2024）表 1 中冷却用水（循环冷却水） | 电池片研发废水：各类废水经分类、分质收集后进入厂内2#废水处理设施（调节池-除双氧水反应池-二级除氟-化学软化-PH 调整池-生化池-水解酸化池-缺氧池-好氧池-MBR- 树脂罐-二级RO-MVR 蒸发）处理后回用于冷却塔冷却用水，循环使用，不外排。蒸发结晶物作为危废处置。 | 验收监测 | |
| 3 | 3#废水处理设施 | 《城市污水再生利用工业用水水质》（GB/T19923-2024）表 1 中冷却用水（循环冷却水） | 电池片表面处理研发废水：各类废水经分类、分质收集后进入厂内 3#废水处理设施（调节池-PH 调整池-蒸发）处理后回用于冷却塔冷却用水，循环使用，不外排。蒸发结晶物作为危废处置。 | 验收监测 |
表2 大气污染治理设施
| 1 | NMP回用设施（1#排气筒） | 《电池工业污染物排放标准》 （GB30484-2013）表 5、表 6 | 本项目锂离子研发过程搅拌、涂料、干燥废气引至回收系统进行处理后NMP回用，未收集的于一根45m高1#排气筒有组织排放。 | 验收监测 | |
| 2 | 碱洗塔、酸洗塔（2#排气筒） | 《电池工业污染物排放标准》 （GB30484-2013）表 5、表 6；《大气污染物综合排放标准》《大气污染物综合排放标准》 （DB31/933-2015） （DB32/4041—2021）表 1 及表 3； | 酸洗废气酸洗废气经负压孔吸至碱液洗涤塔处理后经一根15m高2#排气筒排放。 显影、清洗除油、烘干废气经负压吸至二级酸液洗涤塔处理后经一根15m高2#排气筒排放。 | 验收监测 | |
| 3 | 电加热燃烧+水喷淋+碱洗塔处理设施（3#排气筒） | 《大气污染物综合排放标准》 （DB32/4041—2021）表 1；《电池工业污染物排放标准》 （GB30484-2013）表 5、表 6 | 沉积废气、镀膜废气、干法蚀刻研发废气进入电加热燃烧+水喷淋+碱洗塔处理设施处理后于一根60m高3#排气筒排放。 | 验收监测 | |
| 4 | 二级活性炭（4#排气筒） | 有组织《大气污染物综合排放标准》（DB32/4041—2021）、无组织《电池工业污染物排放标准》（GB30484-2013）表6；《电池工业污染物排放标准》 （GB30484-2013）表 5、表 6 | 擦拭、串焊废气进入二级活性炭吸附处理设施处理后于一根60m高4#排气筒排放。 | 验收监测 | |
| 5 | 二级活性炭（7#排气筒） | 《大气污染物综合排放标准》（DB32/4041-2021） | 喷涂废气进入二级活性炭吸附处理设施处理后于一根60m高7#排气筒排放。 | 验收监测 | |
| 6 | 二级活性炭（8#排气筒） | 《大气污染物综合排放标准》 （DB32/4041—2021） | 印刷废气进入二级活性炭吸附处理设施处理后于一根60m高8#排气筒排放。 | 验收监测 | |
| 7 | 等离子燃烧+水喷淋+碱洗塔处理设施（5#排气筒） | 《半导体行业污染物综合排放标准》（DB32/3747-2020）表 3 | CVD、PVD、干法蚀刻、化学蚀刻、MVCD 等半导体设备研发废气进入等离子燃烧+水喷淋+碱洗塔处理设施处理后于一根65m高5#排气筒排放。 | 验收监测 |
表3 噪声治理设施
| 1 | 隔声减震 | 《工业企业厂界环境噪声排放标准》（GB12348-2008） | 隔声减震 | 验收监测 |
表4 地下水污染治理设施
表5 固废治理设施
| 1 | 按“减量化、**化、无害化”的处置原则，落实各类固体废物特别是危险废物的收集、处置和综合利用措施，危险废物必须委托有资质单位安全处置。厂内危险废物暂存场所应符合《危险废物贮存污染控制标准》(GB18597-2023)要求，确保不对周围环境和地下水造成影响 | 一般固废： 废包装材料、废弃膜、废刀轮、废铝塑膜、废锂离子电池、废硅片、废电池片、废极片材料收集外售**鑫****公司。 危险废物： 含铜废液、废油墨、含锡废液、蒸发结晶物、废包装容器、废活性炭、废抹布、废水处理过滤介质、废针筒、废油委托****公司处置；污泥委托******公司处置。 生活垃圾： 生活垃圾委托环卫部门清理。 |
表6 生态保护设施
表7 风险设施
5、环境保护对策措施落实情况
依托工程
| 无 | 验收阶段落实情况：无 |
| / |
环保搬迁
| 无 | 验收阶段落实情况：无 |
| / |
区域削减
| 无 | 验收阶段落实情况：无 |
| / |
生态恢复、补偿或管理
| 无 | 验收阶段落实情况：无 |
| / |
功能置换
| 无 | 验收阶段落实情况：无 |
| / |
其他
| 无 | 验收阶段落实情况：无 |
| / |
6、工程建设对项目周边环境的影响
| / |
| / |
| / |
| / |
| / |
| / |
7、验收结论
| 1 | 未按环境影响报告书（表）及其审批部门审批决定要求建设或落实环境保护设施，或者环境保护设施未能与主体工程同时投产使用 |
| 2 | 污染物排放不符合国家和地方相关标准、环境影响报告书（表）及其审批部门审批决定或者主要污染物总量指标控制要求 |
| 3 | 环境影响报告书（表）经批准后，该建设项目的性质、规模、地点、采用的生产工艺或者防治污染、防止生态破坏的措施发生重大变动，建设单位未重新报批环境影响报告书（表）或环境影响报告书（表）未经批准 |
| 4 | 建设过程中造成重大环境污染未治理完成，或者造成重大生态破坏未恢复 |
| 5 | 纳入排污许可管理的建设项目，无证排污或不按证排污 |
| 6 | 分期建设、分期投入生产或者使用的建设项目，其环境保护设施防治环境污染和生态破坏的能力不能满足主体工程需要 |
| 7 | 建设单位因该建设项目违反国家和地方环境保护法律法规受到处罚，被责令改正，尚未改正完成 |
| 8 | 验收报告的基础资料数据明显不实，内容存在重大缺项、遗漏，或者验收结论不明确、不合理 |
| 9 | 其他环境保护法律法规规章等规定不得通过环境保护验收 |
| 不存在上述情况 | |
| 验收结论 | 合格 |
温馨提示
1.该项目指提供国家及各省发改委、环保局、规划局、住建委等部门进行的项目审批信息及进展，属于前期项目。
2.根据该项目的描述，可依据自身条件进行选择和跟进，避免错过。
3.即使该项目已建设完毕或暂缓建设，也可继续跟踪，项目可能还有其他相关后续工程与服务。
400-688-2000
欢迎来电咨询～
