物理气相沉积设备 采购信息公示

一、项目概况

（一）项目编号：****

（二）项目名称：物理气相沉积设备

（三）项目内容及需求：

1、数量：1台

2、交期：60日历天

3、技术要求：

3.1 腔体配置：设备具备两个及以上的上料口，配置基础对位、degas、传输、cooling公共腔体，可配置3个及3个以上的物理气相沉积工艺腔体，主要用来沉积热敏氧化钒薄膜；

3.2 适用产品尺寸：8英寸；

3.3 泵及电源：机械泵、涡轮分子泵、冷泵等关键部件均需采用进口品牌，电源输出电压及功率精度≤3% set point；

3.4 公共腔体基础真空＜5E-8Torr，公共腔体漏率≤10000nTorr/min；工艺腔体基础真空度＜4E-8Torr，工艺腔体漏率≤4000nTorr/min；

3.5 Heater控温：控温满足20-300℃范围任一设定值，控温精度满足setpoint±3℃，控温均匀性≤2% set point；

3.6 气体种类：包含Ar、O2气体，需安装适合工艺使用需求量程的MFC，MFC流气精度≤3% set point，O2 MFC前后需加装气动阀和微型调压阀，并在机台端配置手阀；

3.7 氧化钒镀膜性能要求：

膜厚：支持200-2000膜厚镀膜；

沉积速率：0.1-5可调(30-500W DC power)

膜厚均匀性(within wafer)：＜3%(13pts,5mmEE, ,600-1200)

膜厚均匀性(wafer to wafer)：＜3%(13pts,5mmEE, ,600-1200)

膜厚均匀性(lot to lot)：＜3%(13pts,5mmEE, ,600-1200)

RS均匀性(within wafer)：＜2.5 %(49pts,5mmEE,600-1200)

RS均匀性(wafer to wafer)：＜2.5 %(49pts,5mmEE,600-1200)

RS均匀性(lot to lot)：＜2.5 %(49pts,5mmEE,600-1200)

TCR：＞2.3%(23-40℃)

STRESS：＜200MPA

mechanical PA＜25ea(＞0.2um)

Gas on PA＜25ea(＞0.2um)

In film PA＜50ea(＞0.3um)

3.8 机台外观要求：设备表面无刮伤、掉粉尘，设备外观无锐角、利棱，整体外观配件满足洁净间使用要求；

3.9 备件要求：备件需设计合理，无互相剐蹭，不漏等离子体污染腔体，便于安装和拆卸，需合理喷砂保证腔体颗粒状况良好；

3.10 软体要求：软件界面需直观展示系统及腔体状况、晶圆状态、加工过程关键参数，各个工艺参数形成log曲线可实时监控查询、可使用光盘等便携存储设备导出；

3.11 系统支持半导体通用协议，SECS-GEM通讯，支持EAP自动上下货；

3.12 所有上料口均提供8寸晶圆适配SMIF，支持25pcs晶圆cassette；

3.13 安全防护：具备安全互锁系统、漏电保护系统、报警系统、安全危害操作标识等安全防护措施；

二、资格要求

（一）必须符合《政府采购法》第二十二条规定的条件：

1、具有独立承担民事责任的能力。

2、具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度。

3、具有履行合同所必需的设备和专业技术能力。

4、有依法缴纳税收和社会保障资金的良好记录。

5、法律、行政法规规定的其他条件。

6、需提供参加本项目投标活动前三年内，在经营活动中无重大违法、违规记录、重**全生产事故的声明。

7、未被列入“信用中国”网站(www.****.cn )失信被执行人、重大税收违法案件当事人名单、政府采购严重违法失信行为记录名单和“中国政府采购网”（www.****.cn ）政府采购严重违法失信行为记录名单，提供网上查询结果记录（查询日期在发布公告之后），截图打印。

（二）特定资格要求：

1、参与企业必须为货物的生产厂家或代理商，生产商至少3年以上行业从事经验，代理商必须持有生产厂家代理证书（代理时间不少于1年），不接受项目授权证书。

2、本次招标不接受联合体投标。

3、本次招标要求提供打样。

三、供应商资料递交截止时间和地点加急标书代写

（一）截止时间：2026-04-15 17:30加急标书代写

（二）地点：****开发区****路6号

四、联系事项

采购联系人：冯莎莎 电话：027-****5129

技术联系人：尹魏玲 电话：132-6068-4030