MPCVD金刚石沉积系统

A****2402真空应用设备

高质量4英寸级金刚石单晶的制备一直是金刚石迈向第三代半导体应用的尚未解决的瓶颈问题。在现有的各种制备方法中，微波化学气相沉积（MPCVD）被认为是高速率制备出高质量的、大面积金刚石单晶材料的唯一可行方法。目前国际技术竞争激烈，我国受限于沉积设备性能，单晶尺寸及质量难以突破产业化瓶颈。新购置设备可以稳定生长6-8英寸的金刚石多晶膜及4-6英寸金刚石单晶，满足芯片散热基板、高功率激光窗口等需求，突破“卡脖子”技术，为我国军工领域贡献力量，支撑我国第三代半导体、量子信息等战略性产业发展起到关键性作用。 采购数量 ：1套。 技术参数 1.GaN微波发生器； 2.基台直径:220 mm； 3.有效沉积直径：200 mm，中心与边缘温差小于10℃； 4.进气系统:质量流量计CS200：H2: 10 slm,CH4：500 sccm,O2：50 sccm,Ar:200 sccm,N2 5sccm; 5.红外测温仪:单色红外测温+可成像双色测温仪（各1）； 6.1 频率：915MHz±5MHz 6.2 功率稳定度：1% 6.3 输出功率：0~55kW连续可调 6.4 纹波：5% 6.5 工作模式：连续波 6.6 驻波：1.5 6.7 谐波：-50dBc 6.8 工作温度：5~45℃ 售后服务 1、仪器到达最终用户现场后，在接到用户通知一周内，卖方安排有经验的工程技术人员到用户现场安装、调试，按验收指标逐项测试至到达到验收要求；仪器的安装调试需在接到用户通知后30日内完成。 2、技术培训：仪器安装调试合格后，卖方工程师在买方现场对买方人员进行操作及日常维护培训，直到买方人员能独立操作 。3、维修响应时间：卖方应在24小时内对用户的服务要求做出响应，如果需要上门服务，保证在5个工作日内到达用户现场。4、保修期：保修期一年，时间从安装调试验收合格后开始计算 。5、有完善的售后服务体系，有充足的零配件。6、提供使用手册、专用工具和备品备件等。