近期,****研究所发布多项仪器采购意向,计划采购激光隐形切割成套设备、微光显微镜分析系统、光刻机用涂胶显影机、多功能高通量高灵敏加工表征系统、超声波扫描显微镜、热反射分析仪、原子层沉积系统等仪器设备,预算总金额59954万元。预计采购时间2026年4月~7月。
****政府采购的初步安排,具体****学院****研究所发布的采购公告和采购文件为准,有意向的企业可持续关注其发布的招标信息。标书代写
****研究所仪器采购意向汇总
| 序号 |
采购项目 |
预算金额 |
预计 |
| 1 |
12吋中束流离子注入机 |
2312 |
2026年4月 |
| 2 |
半导体智能化设备框架腔室总成 |
460 |
2026年5月 |
| 3 |
半导体设备前端智能化传输模块 |
540 |
|
| 4 |
半导体智能化设备框架腔室总成 |
460 |
|
| 5 |
净化改造工程 |
333 |
|
| 6 |
光刻掩膜版 |
575 |
|
| 7 |
24通道高分辨可编程全晶圆电学特性自动测试系统 |
500 |
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| 8 |
高温芯片宽温测试分选系统 |
180 |
|
| 9 |
高温数模混合集成电路测试系统 |
400 |
|
| 10 |
激光隐形切割成套设备 |
1000 |
2026年6月 |
| 11 |
12吋晶圆等离子划片机 |
1880 |
|
| 12 |
12吋晶圆级无机红外拆键合设备 |
5300 |
|
| 13 |
热压剥离机 |
350 |
|
| 14 |
微光显微镜分析系统 |
290 |
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| 15 |
12吋硅锗硅超晶格叠层外延系统 |
7500 |
|
| 16 |
12吋高深宽比工艺氧化硅填充化学气相沉积系统 |
5237 |
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| 17 |
12吋干法去胶机 |
900 |
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| 18 |
12吋化学纯气态各向同性干法刻蚀机 |
3140 |
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| 19 |
光刻机用涂胶显影机 |
7000 |
|
| 20 |
中功率微波功放系统 |
300 |
|
| 21 |
动态特性测试系统 |
300 |
|
| 22 |
110G在片负载牵引测试系统 |
950 |
|
| 23 |
半导体微区电容和扩散电阻扫描显微镜 |
150 |
|
| 24 |
多功能高通量高灵敏加工表征系统 |
980 |
|
| 25 |
超声波扫描显微镜 |
200 |
|
| 26 |
热反射分析仪 |
110 |
|
| 27 |
非接触霍尔测试仪 |
200 |
|
| 28 |
电子束曝光机年度维保 |
180 |
|
| 29 |
****维修部件 |
180 |
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| 30 |
透射电子显微镜(TEM)、聚焦离子束显微镜(FIB)以及二次离子质谱(SIMS)等半导体测试分析 |
1100 |
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| 31 |
12吋关键线宽尺寸检查扫描电子显微镜 |
2200 |
|
| 32 |
高功率微波功放系统 |
500 |
|
| 33 |
瞬态热像动态分析系统 |
700 |
|
| 34 |
自动光学检测系统 |
420 |
|
| 35 |
化合物半导体CMP系统 |
350 |
|
| 36 |
表面活化晶圆键合设备 |
800 |
|
| 37 |
碳膜磁控溅射系统 |
200 |
|
| 38 |
超高温热处理系统 |
328 |
|
| 39 |
固体激光剥离机 |
489 |
|
| 40 |
离子束整形机 |
875 |
|
| 41 |
气体团簇离子束抛光系统 |
365 |
|
| 42 |
微波等离子体化学气相沉积系统 |
500 |
|
| 43 |
高精度C2W键合机 |
400 |
|
| 44 |
碳化硅(金刚石)晶圆激光隐形切割机 |
250 |
|
| 45 |
激光退火设备 |
500 |
|
| 46 |
原子层刻蚀机 |
490 |
|
| 47 |
原子层沉积系统 |
430 |
|
| 48 |
深腔刻蚀机 |
250 |
|
| 49 |
蒸发台 |
300 |
|
| 50 |
减薄系统 |
300 |
|
| 51 |
离子注入机 |
1700 |
|
| 52 |
等离子增强化学气相沉积设备 |
3600 |
2026年7月 |
| 53 |
光学膜厚仪 |
1000 |
|
| 合计 |
59954 |
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| 来源:中国政府采购网 整理:化工仪器网 |
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