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为便****政府采购信息,根据《****政府采购意向公开工作的通知》(财库〔2020〕10号)等有关规定,现将本单位2026年05月至2026年06月采购意向公开如下:
| 1 | 反应离子束刻蚀设备(RIBE) |
标的名称:反应离子束刻蚀设备(RIBE)
标的数量:1
主要功能或目标:处理最大8英寸晶圆的高精度刻蚀,具备倾斜光栅蚀刻(RIBE/CAIBE)能力。目标是实现高均匀性、高选择比的纳米级刻蚀工艺,特别是满足SiC等硬质材料倾斜光栅的高精度加工需求用于先进微纳光学及半导体器件制造。
需满足的要求:1.真空系统:主分子泵抽速>3000L/s,预真空室本底≤5E-6mbar; 2.离子源:无灯丝射频源 4.工艺气路:具备8路反应气及均匀性挡板; 5.刻蚀均匀性σ<2%,速率≥20nm/min; 6.刻蚀深度偏差<3%、角度偏差<±6°
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落实国家关于节能产品、 环保标志产品、 促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品等政策情况 | 10,000,000.00 | 2026年06月 |
本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
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2026年05月14日