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根据《中华人民**国环境影响评价法》等相关法律和《环境影响评价公众参与办法》(生态环境部令第4号)的要求,现对“镓创未来第四代半导体****基地项目”环境影响评价的有关信息进行公开,并征求公众意见。
一、建设项目名称、建设内容等基本情况
镓创未来第四代半导体****基地项目位于**省**市**市福兴东路**段3号4号楼3层,无新基建,租用**市福兴东路**段3号4号楼3层600平方,建设第四代半导体****基地,其中一期投资600万元,投建2英寸氧化镓同质和异质外延片生产线。主要建筑物面积:0平方米,新增生产能力(或使用功能):预计2026年达产,年产能600片。
二、建设单位名称和联系方式
(1)建设单位:****
(2)联系人:褚工
(3)联系电话:199****6904
(4)联系地址:**省**市**市福兴东路**段3号4号楼3层
三、环境影响报告书编制单位名称
(1)编制单位名称:****研究院有限公司
(2)编制单位地址:**火炬高新区软件园创新大厦C区4F-D1
(3)编制单位联系人:黄工,电话:0592-****656
(4)邮箱:****@qq.com
四、公众意见表
见附件。
五、提交公众意见表的方式和途径
自本公示之日起10日内,公众可向建设单位、评价机构发送电子邮件、信函等方式发表关于该项目建设及环评工作的意见看法(不接受与环境保护无关的问题)。