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| 序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
| 4197-244ZLCP10001/100 | 扫描式曝光机 | 1套 | 设备用途及基本要求: 本设备适用于Array制程中涂有正性光阻、有机膜的基板,或CF制程中涂有负性光阻的基板,进行曝光处理形成图形,并具有对位﹑自动对焦﹑曝光﹑基板和光罩搬送等功能。 要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY20000/USD3250 |
| 4197-244ZLCP10001/101 | 阵列干刻设备 | 1套 | 设备用途及基本要求: 本设备用于阵列制程中,当玻璃基板成膜(a-Si、N+、SiNx、SiO2)形成光阻图案后,以干法刻蚀加工为目的,它具有以下功能: ◇设备内真空排气功能。 ◇设备内的基板向各腔室真空搬送功能。 ◇原料气体分解成等离子体,对成膜后(a-Si、N+、SiNx、SiO2)的基板进行刻蚀的功能。 ◇设备内进行大气Vent的功能。 要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY5000/USD850 |
| **** | 烘烤炉设备 | 1套 | 设备用途及基本要求: 该设备用于阵列制程中,让基板以均一的温度进行烘烤。 要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY3000/USD500 |
| 4197-244ZLCP10001/103 | 涂胶显影设备 | 1套 | 设备用途及基本要求: 该设备用于阵列、彩膜制程,以在基板上形成光刻胶、有机绝缘膜、BM、RGB、PS材料的图形为目的,具有以下功能: ①基板洗净、干燥的功能。 ②在基板上均匀涂胶(有机绝缘膜材料或光刻胶材料)的功能。 ③干燥、烘烤涂胶后基板的功能。 ④显影曝光后基板的功能。 ⑤烘烤显影后基板的功能。 ⑥在线检查的功能。 要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY20000/USD3250 |
| 4197-244ZLCP10001/104 | 湿制程设备 | 1套 | 设备用途及基本要求: 该设备用于解包基板以及投入清洗,湿刻金属氧化物膜层以形成预期的图案,剥离光刻胶。 要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY3000/USD500 |
| 4197-244ZLCP10001/105 | 检查修理设备 | 1套 | 设备用途及基本要求: 该设备用于阵列、彩膜制程中检查与修补。 要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY10000/USD1650 |
| 4197-244ZLCP10001/106 | 贴合系统 | 1套 | 设备用途及基本要求: 该设备用于实现:绝缘膜膜印刷、烘烤、光固化、密封胶涂布、电浆滴下、真空贴合、UV预固化、密封胶热固化,基板搬送,以及工序过程中的检查。 要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY20000/USD3250 |