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| 紫外臭氧清洗仪 | 1.0/ | 日本Samco | UV-1 | 紫外臭氧清洗仪是利用紫外线结合高浓度臭氧,在可控制的温度下,去除样品表面的光刻胶或各种类型的有机物残留,全部工艺为干法工艺,详细参数如下: 1.清洗原理:在腔体内部通入高浓度臭氧,同时在样品下面加热,然后通过紫外光的照射,使臭氧和样品表面的光刻胶或者有机物发生化学反应,从而达到去除样品表面的光刻胶或者有机物残留的作用; 2.样品台:直径200毫米,铝制,表面经过防氧化和防腐蚀处理; 3.★温度控制范围:室温到300度,通过PID热电偶控制; 4.★紫外灯:110瓦低压汞灯,有两种波长:254纳米和185纳米; 5.臭氧发生器:静音型臭氧发生器; 6.定时器:可以设置0到99小时59分钟范围,数字显示; 7.气体管路:一个氧气的机械流量计,流量设定范围0到1升/分钟; 8.吹扫气体:氮气; 9.★臭氧处理器:可消除臭氧至安全排放浓度; 10.★去胶性能:光刻胶THMR-IP3250,厚度0.5微米,在30分钟工艺内去除; 11.★安全保护:反应室上盖带安全互锁装置,当盖子打开时自动停止臭氧导入; 12.厂务要求(由用户自行准备): 12.1电源:220伏,6安培,50赫兹; 12.2接地:D型接地(小于等于100欧姆); 12.3工艺气体(氧气):压力1MPa,1/4英寸快速接头; 12.4氮气吹扫:压力1MPa,1/4英寸快速接头; 12.5排气:1/4英寸快速接头 | 按行业标准提供服务(提供本地化安装调试及售后服务)需要制造商提供该项目的授权书和售后服务承诺书。 |