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| 快速热退火系统 | 项目编号**** | |
| 2026-05-28 17:49:00 | 公告截止日期2026-05-31 18:00:00 | |
| **** | 付款方式合同签订后50%,到货验收合格后50% | |
| 联系电话 | ||
| 到货时间要求 | 签订合同后180个自然日内 | |
| ¥ 485000.00 | ||
| **市**区****01****工厂院**B栋 | ||
| 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 |
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| 快速热退火系统 | 1 | 台 |
| ¥ 485000.00 |
| 1 快速热退火系统 ★1.1 最大样品6英寸。 1.2 工艺能力:快速热退火、快速热氧化、快速热氮化、真空退火。 1.3 主要工艺指标 ★1.3.1 最高温度1200℃。6英寸温度均匀性优于1.5%。 1.3.2 温度均匀性验收方法:使用TC-wafer-测试9点(@500℃)。计算公式:(最大值-最小值)/(2×平均值)×100%。 ★1.3.3 最多四路工艺气路。 ★1.3.4 具备快速升降温功能,最快升温速率150℃/s;降温速率200℃/min。 ▲1.3.5 可实现多气体气氛工艺。 ▲1.3.6 具备真空条件退火工艺。 ★1.3.7 800℃下可无限保温。 1.3.8 无限保温:连续工作24小时无故障。 1.4 工艺腔室 ▲1.4.1 工艺腔室材质需采用石英材料,具备易拆卸可清洗的功能。 1.4.2 腔室尺寸不得小于160*160*15mm。 1.4.3 腔室具备进气、排气口并且有密封装置,支持快速热氧化、快速热氮化以及真空退火工艺。 1.5 载片系统 ▲1.5.1 具备手动载片功能。 1.5.2 提供6英寸晶圆向下兼容的载片托盘,可满足各尺寸晶圆进行快速退火工艺。 1.5.3 载片托盘需具备装卸简单、易清洁等功能。 1.6 加热系统 ▲1.6.1 加热系统采用多组加热灯控制,每组加热灯组成一个温区,可单独调整功率,温区数量不低于6个。 ▲1.6.2 加热灯最大功率不低于18kW。 1.6.3 腔内具备TC测温探头,系统测温重复性:≤±1℃。 1.6.4 工艺过程稳定性:≥30min(@1050℃)。 1.6.5 最大温度过冲:≤2℃。 1.6.6 可支持不透明材质、半透明材质以及透明材质等制品的加热和测温,协助平台完成上述条件的建立。 1.6.7 衬底冷却:氮气吹扫。 1.6.8 腔体冷却:水冷方式。 1.7 气体控制系统 ▲1.7.1 四路工艺气路,包括:氮气(N2)、氧气(O2)、氩气(Ar)以及一路预留气路,并且配备相关气体管道、阀门、气体流量控制器(MFC)等。 1.7.2 气体流量控制器(MFC)的量程需要配合工艺条件来选择。 1.8 真空系统 1.8.1 系统配置干式真空泵。 1.8.2 真空泵抽速:≥5 m3/h。 1.8.3 极限真空:≤0.4Pa。 1.8.4 进气接口和出气接口规格:KF 25。 1.8.5 系统漏率 :≤1E-8 mbar. L/s。 1.9 软件控制系统 1.9.1 具备权限管理功能,允许对每个权限的操作范围进行限定。 1.9.2 可编辑工艺条件不低于200条。 1.9.3 可保存并导出设备动作履历、制品作业履历和异常报警履历。 1.9.4 符合SECS/GEM标准, ****实验室的MES系统对接。 1.10 安全系统 1.10.1 配有温度报警系统,与设备安全系统联动。 1.10.2 配有漏液侦测系统,与设备安全系统联动。 1.10.3 设备配有信号灯,通过灯的颜色表示设备的不同状态,不同状态可编辑设定,信号灯的定义以使用方提供的标准为准。 1.10.4 配置不少于1个紧急停止开关(EMO)。 1.11 其他配置 1.11.1 提供整套设备维护维修专用工具(包含清单)。 1.11.2 提供六个月内PM需要更换的耗材。提供备品备件包,包含保修期后一年内所需备品备件。 1.11.3 提供用于验收的晶圆,晶圆数量和质量须满足设备技术性能考核即最终验收通过的使用要求。 1.11.4 未提到的必要配置需符合行业规范,满足工艺需求。 |
| 36个月 |