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高温高真空薄膜沉积系统
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5800000.00
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***********公司企业信息
****2026年6至12月政府采购意向-高温高真空薄膜沉积系统 详细情况
| 高温高真空薄膜沉积系统 | |
| 项目所在采购意向： | ****2026年6至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 高温高真空薄膜沉积系统 |
| 预算金额： | 580.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****0300电子工业生产设备
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| 采购需求概况 ： |
拟采购一台高温高真空薄膜沉积系统，实现高质量金属、氮化物、氧化物薄膜沉积。该设备具备1、工艺腔极限真空≤5E-8Torr；基片加热温度800℃；2、带5片式传片LoadLock，配置至少10个4英寸靶腔；3、配置样品反溅射和离子源系统，配置DC 、DC Pulse、RF电源；4、8英寸范围非均匀性≤3％；片间重复性≤3％；5、该设备所具备的功能和性能对现有项目的顺利实施以及下阶段能否承担高质量薄膜沉积项目具有重要作用。以实际公告为准。
|
| 预计采购时间： | 2026-06 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
招标进度跟踪
2026-05-29
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