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超快激光3D微纳无掩膜光刻系统（超快激光3D微纳打印系统）
招标详情
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****2026年6至12月政府采购意向-超快激光3D微纳无掩膜光刻系统（超快激光3D微纳打印系统） 详细情况
| 超快激光3D微纳无掩膜光刻系统（超快激光3D微纳打印系统） | |
| 项目所在采购意向： | ****2026年6至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 超快激光3D微纳无掩膜光刻系统（超快激光3D微纳打印系统） |
| 预算金额： | 500.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****0300电子工业生产设备
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| 采购需求概况 ： |
拟采购一台超快激光3D微纳无掩膜光刻系统（超快激光3D微纳打印系统），基于双光子灰度光刻技术，集成光斑调制功能，可实现高精度三维结构的快速直写加工，适用于前沿研究，可构建几乎任意形状的三维微纳器件（如复杂微流控芯片、力学/光学超材料、微纳机器人等）。 1、集成原生双光子灰度光刻技术，具备高速激光功率调制硬件，可实时改变体素尺寸；能量调制带宽达 1 MHz，功率调节级数 ≥ 2048 级。 2、水平加工精度不差于200nm，表面粗糙度小于5nm。 3、具备自动聚焦、壳层加工等功能。设备具备长时间稳定运行的能力。 4、可搭配第三方树脂。
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| 预计采购时间： | 2026-06 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
招标进度跟踪
2026-05-29
招标预告
超快激光3D微纳无掩膜光刻系统（超快激光3D微纳打印系统）
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