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等离子增强气相沉积采购项目意向公开
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等离子增强气相沉积采购项目意向公开
发布时间： 2026-05-30
等离子增强气相沉积采购项目意向公开
| 采购单位: |
某单位 |
| 项目名称: |
等离子增强气相沉积采购项目 |
| 预算金额（万元）: |
450 |
| 采购品目: |
A****0300 电子工业生产设备 |
| 采购需求概况: |
为满足低温成膜工艺研发需求，现拟采购一套等离子增强气相沉积设备。该设备为器件制备核心工艺设备，可实现SiO2、Si3N4、SiON、非晶硅、SiC等典型介质及半导体薄膜的低温沉积。 |
| 联系人: |
徐老师 |
| 联系电话: |
0755-****2181 |
| 预计采购时间: |
2026年7月 |
| 备注: |
无 |
本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
2026年5月30日
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