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高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统
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****2026 7（至）7月 政府采购意向-高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统 详细情况
| 高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统 | |
| 项目所在采购意向： | ****2026 7（至）7月 政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统 |
| 预算金额： | 120.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | |
| 采购需求概况 ： |
本次拟采购的高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统旨在通过界面调控而非传统的合金化手段来提升材料性能，从而降低对稀有元素的依赖。精确制备具有特定晶界特征（如低能晶界）的纳米结构金属及合金薄膜，为研究界面稳定性及其对力学性能的影响提供了理想的模型材料。
|
| 预计采购时间： | 2026-07 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
招标进度跟踪
2026-07-16
2026-06-05
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