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原子层沉积设备(ALD)、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)和刻蚀设备等半导体设备生产线项目

审批

浙江-湖州-安吉县

发布时间： 2026年06月13日

项目详情

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事项名称：	建筑工程施工许可（多合一）	业务流水号：	330********2888565653
项目名称：	原子层沉积设备(ALD)、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)和刻蚀设备等半导体设备生产线项目
收件单位：	**建设局（安人	申请单位/申请人：	****
受理时间：	2026-06-12 15:03:41	当前办理状态：	办结 \| 修改工程名称、建设地址、计划开竣工时间、五方法人授权书和承诺书、安全生产管理人员名单、燃气承诺书工程名称，质安监受理单缺少设计单位

温馨提示

1.该项目指提供国家及各省发改委、环保局、规划局、住建委等部门进行的项目审批信息及进展，属于前期项目。

2.根据该项目的描述，可依据自身条件进行选择和跟进，避免错过。

3.即使该项目已建设完毕或暂缓建设，也可继续跟踪，项目可能还有其他相关后续工程与服务。

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